研究課題
基盤研究(B)
シリコン基板が低抵抗であるため、高利得アンテナをシリコン基板上に形成することは困難であった。そこで、CMOS LSIの配線層を用いた人工誘電体(ADL)を最上層アンテナとシリコン基板の間に形成し、アンテナ利得の向上を試みた。CMOS製造技術と同様の製造技術により、ADLとダイポールアンテナを設計試作した。その結果、利得は3dB向上し、10GHz帯において低抵抗シリコン基板上に作製されたアンテナでは最高性能を実現した。
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IEEE Trans.Antennas & Propagation
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