| 研究課題/領域番号 |
22360073
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
流体工学
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| 研究機関 | 北海道大学 |
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研究代表者 |
渡部 正夫 北海道大学, 大学院・工学研究院, 教授 (30274484)
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| 研究分担者 |
真田 俊之 静岡大学, 工学部, 准教授 (50403978)
小林 一道 北海道大学, 大学院・工学研究院, 准教授 (80453140)
矢口 久雄 群馬工業高等専門学校, 機械工学科, 助教 (20568521)
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| 研究期間 (年度) |
2010 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
18,720千円 (直接経費: 14,400千円、間接経費: 4,320千円)
2012年度: 3,250千円 (直接経費: 2,500千円、間接経費: 750千円)
2011年度: 7,280千円 (直接経費: 5,600千円、間接経費: 1,680千円)
2010年度: 8,190千円 (直接経費: 6,300千円、間接経費: 1,890千円)
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| キーワード | 混相流 / 液滴 / 液滴衝突 / 気液界面 / 液膜 / 相変化 / スプラッシュ / 洗浄 / splash / 表面・界面 / 物理洗浄 / 気液二相流 / 凝縮 |
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| 研究概要 |
半導体デバイス製造工程における洗浄工程において,二流体ジェット洗浄呼ばれる,高速な気流に液体を混合し,微細液滴を高速で衝突させ表面を洗浄する技術が多く利用されている.本研究課題では,この洗浄技術の素過程である液滴衝突現象に着目し,固体表面への衝突過程を観察した.特に表面張力,固体表面粗さ,および周囲圧力に着目し,周囲圧力が低下すると,低表面張力液体/粗い固体表面における液滴衝突においても,衝突後の液滴の飛散が抑えられることを確認した.
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