研究課題
基盤研究(C)
機能性酸化物の大気圧下での低温製膜プロセスの実現に向けて、塗布光照射法では、ナノ秒の紫外エキシマパルスレーザーを塗布膜に照射した時の光結晶成長機構の解明が重要な課題である。そこで、本研究では、低温ほど信号強度が増大する燐光現象に着目し、高速測定で実績のある放射測温と組み合わせることにより、レーザー照射時の温度場の定量的理解を目指した。温度場はレーザー照射数の増大に連れて大きく変化することなど光結晶成長機構に関する理解が進んだ他、燐光寿命からレーザー照射時の温度場の推定が可能であることを確認できた。
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