微小領域の磁性と伝導

平成9年度より開始される重点領域研究「微小領域の磁性と伝導」を実施するにあたっての研究推進計画の検討などを目的に、研究会(12月、京都)を行うなどして、研究班員の情報交換に努めた。重点領域研究における主題課題としては、(1)微細加工技術の磁性体への応用、(2)トンネル電流を利用するなどの新奇な磁気抵抗効果の探索、および(3)微小領域の磁性を対象とする測定技術の開発、の3点とすることとした。微細加工技術としては、精度の点で優れている電子ビ-ム描画装置の購入が望まれており、仕様の選定をすすめている。磁性層の加工を行うばかりではなく、半導体基板にV字溝などを作成してその表面に蒸着する方法が新しい構造制御を実現する可能性を持つことが明らかにされ、可及的に推進しておくべき実験であることが認識された。また、傾斜面をもつ基板など、自然秩序化による微粒子あるいは細線の形成も利用価値のある場合があることが認識されている。トンネル電流GMRについては、微細加工によって接点の面積を限定することが結果の再現性を向上させることが認識された。今後さらに、膜面垂直方向の電流によるGMRのための微細コラム作成などを目指す。測定技術としては、近接場磁気光学顕微鏡とスピン分極走査型トンネル顕微鏡に重点をおいて開発をすすめる。本研究課題では理論的研究の協力は不可欠であり、公募研究の中から多数採択して協力者を求めるべきである。しかし、理論家のみの班は組織せず、実験グル-プ内に理論家を分散させ、実質的な共同研究を推進しやすい形態をとることとした。