これまでに行った研究の過程において、RNA分解に伴って誘導されるシトシンのメチル化の遺伝子内における変化、ならびに、エピジェネティックな修飾状態の異なる遺伝子(エピアレル)間での相互作用を介して誘導されるシトシンのメチル化の変化を解析し、これらの階層におけるシトシンのメチル化の拡大を明らかにしてきた。また、シトシンのメチル化の変化により転写抑制が誘導される現象との関連を見出していた。これらのことの理解を深めるため、新たなモデル系となりうる外来遺伝子のRNA分解を効率よく誘導し、シトシンのメチル化ならびに、遺伝子の転写抑制を誘導する系を作出した。この系では、遺伝子の転写領域に対してRNA分解を誘導し、それに伴って誘導されるシトシンのメチル化を解析する。この系を用いた解析により、誘導された遺伝子のプロモーター領域のメチル化が次世代に遺伝し、それに伴って転写の抑制状態が世代を越えて維持されることを明らかにした。このことは、これまで解析してきた、RNA分解に伴って起きるシトシンのメチル化が当該遺伝子の転写抑制を導くことを再現しており、したがって、コサプレッションからのエピジェネティックな復帰現象を説明するものと考えられた。また、ゲノム情報を活用することにより、転移因子の隣接領域のメチル化について解析を行った。その結果、この事象と転移因子のゲノムへの挿入年代との関連は限定的であった。一方、この事象と染色体領域の特性や近傍における他の転移因子の存在とは関連性が認められ、これらの要素が転移因子に由来するゲノムのエピジェネティックな修飾に影響することが示唆された。
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