| 研究課題/領域番号 |
24560924
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
化工物性・移動操作・単位操作
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| 研究機関 | 広島大学 |
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研究代表者 |
金指 正言 広島大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (10467764)
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| 連携研究者 |
郡司 天博 東京理科大学, 理工学部工業化学科, 教授 (20256663)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2015-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2014年度)
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| 配分額 *注記 |
5,460千円 (直接経費: 4,200千円、間接経費: 1,260千円)
2014年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2013年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2012年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
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| キーワード | ゾル－ゲル法 / ガス分離 / アモルファスシリカ / 細孔径制御 / 分子ふるい / 緻密化 / 二酸化炭素分離 / シリカネットワーク / アモルファス |
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| 研究成果の概要 |
本研究では，従来のシリカ膜では分離が困難であった二酸化炭素分離を目的とした，新規二酸化炭素分離膜を創製するために，シリカネットワークサイズを0.38 nm程度に精密制御した。ネットワークサイズの制御は，Si原子間の有機官能基によるスペーサー法，種々の員環数を有する環状シロキサンをユニットとしてもつ環状アルコキシドを出発原料として制御した。いずれの手法においてもネットワーク制御が可能で，Si4員環構造を有するPOSS膜はCO2/CH4高選択透過性を示した。
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