メニュー
検索
研究課題をさがす
研究者をさがす
KAKENの使い方
日本語
英語
全文検索
詳細検索
絞り込み条件
絞り込み
研究期間 (開始年度)
-
検索結果: 10件 / 研究者番号: 40426359
すべて選択
ページ内選択
XMLで出力
テキスト(CSV)で出力
表示件数:
20
50
100
200
500
適合度
研究開始年: 新しい順
研究開始年: 古い順
配分額合計: 多い順
配分額合計: 少ない順
1.
電場印加磁化反転を用いた低消費電力メモリデバイスの実証
研究課題
研究種目
挑戦的研究(萌芽)
審査区分
中区分29:応用物理物性およびその関連分野
研究機関
東京工業大学
研究代表者
東 正樹
東京工業大学, 科学技術創成研究院, 教授
研究期間 (年度)
2021-07-09 – 2023-03-31
完了
キーワード
強磁性強誘電体
/
電場印加磁化反転
/
ナノドット
/
磁気センサー
/
磁気メモリ
/
微細加工
/
ホールセンサー
研究開始時の研究の概要
傾角スピン構造による自発磁化と強誘電性が共存するBiFe1-xCoxO3薄膜に微細加工を施し、磁気メモリデバイスとしての動作を検証する。微細加工を施した薄膜試料で、電気分極・磁気ドメインの単純化・単一化を達成し、電場印加磁化反転のデバイス動作を実現する。磁気情報書き込みに用いる磁場を発生するための電
...
研究成果の概要
BiFe0.9Co0.1O3(BFCO)は電気分極に直行した自発磁化を持ち、電場による分極反転に伴って磁化が反転するため、電場書き込み磁気読み出しの超低消費電力メモリへの応用が期待される。陽極酸化ポーラスアルミナをマスクとして用いた成膜によって、シングルドメインのナノドット化に成功した。また、BFC
...
この課題の研究成果物
国際共同研究 (2件) 雑誌論文 (6件 うち査読あり 6件、オープンアクセス 2件) 学会発表 (19件 うち国際学会 9件、招待講演 4件) 備考 (1件) 産業財産権 (3件 うち外国 1件)
2.
混合蒸気同軸導入フィルタードアーク蒸着装置の試作と高機能高密度カーボン膜の開発
研究課題
研究種目
基盤研究(B)
研究分野
電力工学・電力変換・電気機器
研究機関
豊橋技術科学大学
研究代表者
滝川 浩史
豊橋技術科学大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授
研究期間 (年度)
2017-04-01 – 2020-03-31
完了
キーワード
真空アーク
/
パルスアーク
/
電子ビーム蒸着
/
薄膜コーティング
/
ダイヤモンドライクカーボン
/
機能性薄膜
/
耐熱性
/
EB蒸着
/
フィルタードアーク蒸着
/
ダイヤモンドライクカーボン膜
/
耐熱性向上
/
電子ビーム蒸発
/
高温金型保護膜
研究成果の概要
本研究では,フィルタードアーク蒸着(FAD)装置に,電子ビーム(EB)蒸着源を併用した新規のフィルタードアーク蒸着システムを新たに設計・開発した。開発したEB蒸着併用FAD装置を用いて,水素フリーかつ任意のSi含有量を持つSi-DLC膜を作製した。作製したSi-DLC膜は,高耐熱性膜として期待された
...
この課題の研究成果物
雑誌論文 (8件 うち国際共著 1件、査読あり 8件、オープンアクセス 5件) 学会発表 (68件 うち国際学会 23件、招待講演 11件) 図書 (1件) 備考 (1件)
3.
ガラス表面に複雑な形状のナノパターンを形成できる熱ナノインプリント用金型の開発
研究課題
研究種目
基盤研究(C)
研究分野
生産工学・加工学
研究機関
地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所
研究代表者
安井 学
地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所, 電子技術部, 主任研究員
研究期間 (年度)
2015-04-01 – 2018-03-31
完了
キーワード
Ni-W金型
/
ナノインプリント
/
ガラス
/
めっき
/
アルミ二ウム
/
アルミニウム
/
原盤
/
Ni-W
/
金型
/
ナノ
/
厚膜
研究成果の概要
我々は離型性に優れるNi-Wめっきを用いて、モスアイ構造を形成したNi-W金型を試作した。そして、プラズモン共鳴を利用した受光素子にアルミナノホールが検討されているため、Ni-W金型を用いたアルミナノインプリントを検討した。その結果、室温で純アルミニウム板表面にナノホールを形成できた。必要な圧力は1
...
この課題の研究成果物
雑誌論文 (3件 うち査読あり 3件、謝辞記載あり 3件、オープンアクセス 2件) 学会発表 (12件 うち国際学会 6件、招待講演 1件)
4.
スーパートライボ軸受けを持つ小型フライホイールバッテリの可能性探究
研究課題
研究種目
挑戦的萌芽研究
研究分野
電力工学・電力変換・電気機器
研究機関
豊橋技術科学大学
研究代表者
滝川 浩史
豊橋技術科学大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授
研究期間 (年度)
2014-04-01 – 2017-03-31
完了
キーワード
トライボマテリアル
/
ダイヤモンドライクカーボン膜
/
フィルタードアーク蒸着
/
積層化
/
軸受け
/
フライホイール
/
耐摩耗性
/
相手材攻撃性
/
フライホール
/
中間層
/
摺動性
研究成果の概要
小型フライホイールバッテリに必要な超低摩擦軸受けを実現する方策のひとつとして,既存軸受け材への超低摩耗・超低摩擦保護膜コーティングが考えられる。軟質から硬質まで異なる膜質を持つアモルファスカーボン(DLC)膜を形成する技術を確立し,用途に応じた膜質・特性の選択を可能にした。加えて,多結晶ダイヤモンド
...
この課題の研究成果物
雑誌論文 (3件 うち査読あり 1件) 学会発表 (32件 うち国際学会 4件、招待講演 1件) 図書 (3件) 備考 (2件)
5.
原子ステップ・デコレーションを用いた自己組織化によるグラフェン・ナノワイヤの作製
研究課題
研究種目
基盤研究(C)
研究分野
無機材料・物性
研究機関
神奈川県産業技術センター
研究代表者
金子 智
神奈川県産業技術センター, 電子技術部, 主任研究員
研究期間 (年度)
2014-04-01 – 2017-03-31
完了
キーワード
グラフェン
/
レーザー蒸着法
/
二酸化炭素
/
直接成膜
/
絶縁基板
/
レーザ蒸着法
/
紙
/
鉛筆
研究成果の概要
グラフェンは様々な応用が期待されている物質であるが、製膜温度が1000°Cを超える・触媒が必要である等、その作製方法が確立されていない。本研究では、製膜中に敢えて酸素を導して、余剰炭素が除去された高品質な炭素系薄膜を生成することを試みた。しかし、酸素では酸化作用が強く成膜速度が極端に落ちることが分か
...
この課題の研究成果物
雑誌論文 (5件 うち国際共著 3件、査読あり 5件、オープンアクセス 1件、謝辞記載あり 5件) 学会発表 (12件 うち国際学会 8件、招待講演 10件) 備考 (2件) 産業財産権 (1件)
6.
健康維持を目的としたコルチゾール検出ストレスセンサの開発
研究課題
研究種目
基盤研究(C)
研究分野
分析化学
研究機関
関西大学
(2015)
神奈川県産業技術センター
(2013-2014)
研究代表者
伊藤 健
関西大学, システム理工学部, 准教授
研究期間 (年度)
2013-04-01 – 2016-03-31
完了
キーワード
ストレス評価
/
QCM
/
可搬型
/
短時間評価
/
ストレス
/
コルチゾール
/
水晶振動子
研究成果の概要
コルチゾールは、ストレスの経時変化を追うのに適したストレスマーカーである。本研究では個人が家庭で操作でき、「その場測定」が可能なコルチゾールの検出・測定装置を実現するための研究開発を行った。具体的には、マイクロ流体デバイス及び毛細管現象を利用したフロー系と水晶振動子マイクロバランス法のアセンブル化で
...
この課題の研究成果物
雑誌論文 (3件 うち査読あり 3件、謝辞記載あり 3件) 学会発表 (4件) 備考 (3件)
7.
フィルタードアーク蒸着装置の高機能化と高品質水素フリーDLC膜の形成・加工
研究課題
研究種目
基盤研究(A)
研究分野
電力工学・電力変換・電気機器
研究機関
豊橋技術科学大学
研究代表者
滝川 浩史
豊橋技術科学大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授
研究期間 (年度)
2012-04-01 – 2015-03-31
完了
キーワード
フィルタードアーク蒸着
/
ダイヤモンドライクカーボ ン膜
/
微細加工
/
ナノテクノロジー
/
パターニング
/
エッチング
/
MEMS
/
ダイヤモンドライクカーボン膜
/
高品質化
/
前処理
/
均一成膜
/
膜厚制御
/
異物フリー技術
/
くし形微細加工
研究成果の概要
真空中で発生させたアーク放電を高度に技術利用したフィルタードアークプラズマビーム蒸着システムを更に高機能化し,4インチSiウエハ上に高品質で均一膜厚の水素フリー高密度アモルファスカーボン膜を形成する装置システムおよびノウハウを開発・構築・確立した。均一膜厚成膜を実現するため,純カーボンプラズマビーム
...
この課題の研究成果物
雑誌論文 (10件 うち査読あり 4件、オープンアクセス 1件、謝辞記載あり 1件) 学会発表 (35件 うち招待講演 3件) 図書 (4件) 備考 (2件) 産業財産権 (3件)
8.
CWレーザー誘起ナノトレンチ構造の"かたち"機能を用いた表面改質
研究課題
研究種目
基盤研究(C)
研究分野
生産工学・加工学
研究機関
神奈川県産業技術センター
研究代表者
金子 智
神奈川県産業技術センター
研究期間 (年度)
2010 – 2012
完了
キーワード
ナノ
/
マイクロ加工
/
微細加工
/
ナノ構造
/
レーザー照射
/
ナノ周期構造
/
レーザー加工
/
高速スキャン
/
CWレーザ
/
CWレーザー
研究概要
CWレーザースキャンによる簡易なナノ周期構造作製技術を確立し、ナノ構造組織化の過程の解明を行った。スキャン速度は毎分300mと高速な加工が可能であり、周期構造による構造色の観察、擾水性の変化等を確認した。
...
この課題の研究成果物
雑誌論文 (14件 うち査読あり 6件) 学会発表 (17件 うち招待講演 1件) 図書 (4件) 備考 (4件) 産業財産権 (1件)
9.
半絶縁性シリコン・カーバイド基板を用いた鉄シリサイド半導体の電気特性評価
研究課題
研究種目
基盤研究(C)
研究分野
元素戦略
研究機関
神奈川県産業技術センター
研究代表者
秋山 賢輔
神奈川県産業技術センター, 電子技術部, 主任研究員
研究期間 (年度)
2008 – 2010
完了
キーワード
鉄シリサイド
/
半導体
/
エピタキシャル成長
/
薄膜成長
/
電気特性
/
シリコンカーバイド
/
エピタキシャル
研究概要
Si基板上の3C-SiCエピタキシャル薄膜上に、スパッタ法にて鉄シリサイド(ss-FeSi_2)薄膜のエピタキシャル成長を実現した。(100)面及び(111)面いずれの3C-SiC上においても(100)配向したss-FeSi_2薄膜がエピタキシャル成長することが確認され、(100)3C-SiC上には
...
この課題の研究成果物
雑誌論文 (22件 うち査読あり 22件) 学会発表 (20件) 備考 (2件) 産業財産権 (1件)
10.
半導体基板上非平衡系自己組織化によるエピタキシャル酸化物薄膜の創成
研究課題
研究種目
萌芽研究
研究分野
無機材料・物性
研究機関
神奈川県産業技術センター
研究代表者
金子 智
神奈川県産業技術センター, 電子技術部, 主任研究員
研究期間 (年度)
2007 – 2008
完了
キーワード
エピタキシャル成長
/
酸化物
/
レーザ蒸着
/
格子定数
/
シリコン基板
/
酸化物成長
/
エピタキシャル
/
格子不整合
/
極点座標
研究概要
レーザ蒸着法・スパッター法のいずれにおいても、『無酸素状態での初期製膜』と『酸素導入による本製膜』をシリコン基板上に行った。酸化マグネシウム(MgO)に関しては、両製法においてMgO(001)単一配向性膜の成長を確認した。高基板温度・高酸素濃度においてエピタキシャル成長が確認されたが、それらの結晶は
...
この課題の研究成果物
雑誌論文 (9件 うち査読あり 9件) 学会発表 (6件) 図書 (1件)