KAKEN — 研究課題をさがす | 研究者番号: 70531474

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検索結果: 6件 / 研究者番号: 70531474

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1. 固体電解質を用いた環境調和型電気化学機械研磨のメカニズム解明と技術体系の構築

研究課題

研究種目	基盤研究(B)
審査区分	小区分18020:加工学および生産工学関連
研究機関	立命館大学
研究代表者	村田順二立命館大学, 理工学部, 教授
研究期間 (年度)	2023-04-01 – 2026-03-31交付
キーワード	研磨加工 / 電解酸化 / 炭化ケイ素 / パワー半導体 / 砥粒 / 固体電解質 / 電気化学機械研磨 / SiC / 陽極酸化
研究開始時の研究の概要	高性能パワーデバイスへの応用が進む単結晶 SiC の高能率な研磨法として、電解酸化を援用した電気化学機械研磨 (ECMP) が期待されている。研究代表者が提唱する薬液による環境負荷が全くない新たな環境調和型ECMPについて、そのメカニズム解明とそれに基づく加工技術体系の構築を行う。これにより60分以 ...
研究実績の概要	本研究では薬液フリー環境調和型電気化学機械研磨（Electrochemical mechanical polishing: ECMP）のメカニズム解明とそれに基づく加工技術体系の構築を目的とする．２０２３年度において，以下の研究成果が得られた．
現在までの達成度 (区分)	2: おおむね順調に進展している

この課題の研究成果物	雑誌論文 (2件うち査読あり 2件、オープンアクセス 2件) 学会発表 (8件) 備考 (1件)

2. 固体電解質のイオン輸送を用いた環境調和型電気化学表面プロセスの開発

研究課題

研究種目	挑戦的研究(萌芽)
審査区分	中区分18:材料力学、生産工学、設計工学およびその関連分野
研究機関	立命館大学
研究代表者	村田順二立命館大学, 理工学部, 教授
研究期間 (年度)	2023-06-30 – 2025-03-31交付
キーワード	固体電解質 / パターニング / 陽極酸化 / アノード溶解 / 高分子電解質 / 表面改質
研究開始時の研究の概要	本研究では、研究代表者が提唱する「固体電解質を利用した液体フリー電気化学表面プロセス」をベースとした新たな環境調和型の除去加工・表面改質のメカニズムを明らかにし，その結果による加工プロセスの技術体系を構築することである．加工メカニズムを深く理解するため，PEM/電極界面の電気化学反応，およびPEMの ...
研究実績の概要	本研究の目的は，「固体電解質を利用した液体フリー電気化学表面プロセス」により，新たな環境調和型の除去加工・表面改質などのメカニズムを明らかにし，その結果による加工プロセスの技術体系を構築することである．２０２３年度に得られた主な成果は以下のとおりである．
現在までの達成度 (区分)	1: 当初の計画以上に進展している

この課題の研究成果物	雑誌論文 (2件うち査読あり 2件、オープンアクセス 2件) 学会発表 (11件うち国際学会 1件) 備考 (1件)

3. 固体電解質を用いたGaN表面の電解援用ドライポリシングの開発

研究課題

研究種目	基盤研究(C)
審査区分	小区分18020:加工学および生産工学関連
研究機関	立命館大学
研究代表者	村田順二立命館大学, 理工学部, 准教授
研究期間 (年度)	2019-04-01 – 2023-03-31完了
キーワード	研磨加工 / 陽極酸化 / 固体電解質 / 高分子電解質 / 電気化学機械研磨 / ワイドギャップ半導体 / 研磨 / 電解酸化 / 窒化ガリウム / 微細加工 / ポリシング
研究開始時の研究の概要	次世代の光・電子デバイス用材料である窒化ガリウム（GaN）に対する，高効率・高精度表面加工技術の確立が求められている．本研究では，電気化学（電解）反応を利用した表面改質の導入により，化学的に安定なGaNの高効率加工法の開発を行う．これにより，電解処理に用いられる薬液を排除し，固体電解質がそれを代替で ...
研究成果の概要	本研究では、固体高分子電解質を用いた環境調和型電気化学機械研磨について提唱し、ワイドギャップ半導体の高効率な研磨法を開発した。固体高分子電解質と砥粒を含有させたイオン伝導性パッドを用いることで、薬液を一切用いずに高効率に研磨が可能であることを見出した。本加工法により、従来研磨法の約10倍の加工速度を ...

この課題の研究成果物	雑誌論文 (6件うち査読あり 4件、オープンアクセス 1件) 学会発表 (12件うち国際学会 3件) 産業財産権 (3件)

4. 低カーフロス・薄型太陽電池Siウェハを実現する触媒援用化学的スライシングの開発

研究課題

研究種目	基盤研究(C)
研究分野	生産工学・加工学
研究機関	近畿大学
研究代表者	村田順二近畿大学, 理工学部, 准教授
研究期間 (年度)	2015-04-01 – 2018-03-31完了
キーワード	切断加工 / エッチング / 太陽電池 / 切断 / 半導体 / スライシング / 光照射援用加工 / 光ファイバ
研究成果の概要	太陽電池向け材料であるシリコン等のダメージフリー切断加工を目的とした、新たな砥粒フリースライシング法の開発を行った。本加工法は、化学液を加工物に供給しながらワイヤで擦過を行うものであり、従来技術よりも切断幅（カーフロス）を低減させることができる。本研究では、開発技術における加工速度の向上、マルチワイ ...

この課題の研究成果物	雑誌論文 (3件うち査読あり 1件) 学会発表 (4件うち国際学会 1件、招待講演 1件) 備考 (1件)

5. 次世代オプトエレクトロニクス基板の原子スケール平坦化技術の開発

研究課題

研究種目	若手研究(B)
研究分野	生産工学・加工学
研究機関	近畿大学 (2014) 立命館大学 (2012-2013)
研究代表者	村田順二近畿大学, 理工学部, 講師
研究期間 (年度)	2012-04-01 – 2015-03-31完了
キーワード	窒化ガリウム / 研磨加工 / 触媒 / エッチング / 研磨 / 平坦化 / 発光特性 / 精密研磨
研究成果の概要	本研究では，触媒を用いた化学エッチングを応用した微粒子・薬液フリー平坦化法を開発し，既存の技術では実現することが困難であったダメージレス超平坦GaN表面を高能率かつ安定的に創生することを目的とした研究開発を実施した．その結果、2インチ基板の全面にわたって既存の技術では到達が困難である原子レベルの平坦 ...

この課題の研究成果物	雑誌論文 (5件うち査読あり 5件、謝辞記載あり 1件) 図書 (1件) 産業財産権 (1件)

6. 光電気化学プロセスを利用した窒化ガリウム超平坦面作製技術の開発

研究課題

研究種目	若手研究(B)
研究分野	生産工学・加工学
研究機関	立命館大学 (2010) 大阪大学 (2009)
研究代表者	村田順二立命館大学, 理工学部, 助教
研究期間 (年度)	2009 – 2010完了
キーワード	窒化ガリウム / 光電気化学 / 固体酸触媒 / 平坦化加工 / 光電気化学プロセス / 精密研磨 / 固体酸・塩基触媒 / 研磨 / 光電気化学反応 / 酸・塩基触媒
研究概要	本研究の目的は,短波長発光素子や次世代の高周波パワーデバイス用材料として期待されている窒化ガリウム基板の高精度平坦化加工技術の開発である.窒化ガリウム基板の新しい加工技術として,基板表面に紫外光を照射することにより酸化膜を形成し,その酸化膜を固体酸触媒により除去するプロセスを開発した.開発した加工技 ...

この課題の研究成果物	雑誌論文 (10件うち査読あり 10件) 学会発表 (19件) 備考 (1件) 産業財産権 (1件)