14族ナノシートの合成

• Project Area: Science on group-14 nanosheets
• Project/Area Number: 24H00850
• Research Category: Grant-in-Aid for Transformative Research Areas (B)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Review Section: Transformative Research Areas, Section (II)
• Research Institution: Nagoya University
• Principal Investigator: 黒澤 昌志 名古屋大学, 工学研究科, 准教授 (40715439)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 大田 晃生 福岡大学, 理学部, 准教授 (10553620)
• Project Period (FY): 2024-04-01 – 2027-03-31
• Project Status: Granted (Fiscal Year 2024)
• Budget Amount: ¥54,210,000 (Direct Cost: ¥41,700,000、Indirect Cost: ¥12,510,000); Fiscal Year 2024: ¥25,090,000 (Direct Cost: ¥19,300,000、Indirect Cost: ¥5,790,000)
• Keywords: 14族ナノシート / 薄膜 / 結晶成長 / 絶縁膜上 / 大気安定

Outline of Research at the Start

14族ナノシート(グラフェンのCをSi、Ge、Snに置換した二次元物質:シリセン、ゲルマネン、スタネン)は、超高真空中で導電性基板上でのみ、その合成に成功しており、理論的に予測されている卓越した物性を応用するには至っていない。この課題解決に向けて、最近我々が開発した大気安定14族ナノシート(絶縁膜上、絶縁膜サンドイッチ構造)をB01物性班やC01応用班に安定提供することをA01合成班の第一の目的とする。加えて、表面修飾や混晶化(Si1-xGex、Ge1-xSnx)により電子状態を変調した材料創製も行い、14族ナノシートを基軸とした材料設計指針の体系化に必要な試料合成を進める。