分光法による反応性プラズマ内の非発光ラジカル密度測定法の開発
| Project/Area Number |
01632006
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Institution | Nagoya University |
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Principal Investigator |
後藤 俊夫 名古屋大学, 工学部, 教授 (50023255)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
井上 元 国立公害研究所, 主任研究員 (70101053)
鷲田 伸明 国立公害研究所, 室長 (70101045)
河野 明広 名古屋大学, 工学部, 助教授 (40093025)
山田 千樫 分子科学研究所, 助手 (70037266)
広田 栄治 総合研究大学院大学, 副学長 (30011464)
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| Project Period (FY) |
1989
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1989)
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| Budget Amount *help |
¥17,400,000 (Direct Cost: ¥17,400,000)
Fiscal Year 1989: ¥17,400,000 (Direct Cost: ¥17,400,000)
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| Keywords | シランプラズマ / 赤外レーザー吸収法 / レーザー誘起蛍光法 / SiHm非発光ラジカル / CF非発光ラジカル / 拡散係数 / 反応速度定数 / CF_4プラズマ |
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| Research Abstract |
研究目的
プロセス用反応性プラズマの定量的研究を行うには、薄膜形成の前駆物質として重要な非発光ラジカルの密度を知る必要がある。本研究ではシラン系ラジカルの赤外スペクトル、吸収のf値等を決定すると共に、赤外床び可視レーザ分光法を用いてSiH_m(m=0-3)非発光ラジカル密度(絶対値)測定法を開発し、RFシランプラズマ内のラジカル密度測定を行う。さらにエッチング系のCF_4系ラジカル計測も行い、それらの結果を基に計測法の簡便化を計る。また光イオン化質量分析法等による非発光ラジカルの反応速度定数の測定法の研究も行う。
平成元年度研究成果
63年度は赤外レーザー吸収法による直流パルスシランプラズマ内のラジカル密度及び拡散係数等の測定、可視レーザー分光法によるラジカル密度測定装置の製作を行った。それを発展させて本年度は次の成果を得た。
1.シラン系ラジカルの計測
(1)赤外レーザー吸収法を用いてSiH_2の赤外スペクトル(ν_3、ν_1バンド)の解明を行った。また薄膜作製条件下でRFシランプラズマ内のSiH_3非発光ラジカルの密度(絶対値)の空間分布を測定した。
(2)ホローカソード光源を利用した紫外吸収法によりRFシランプラズマ内のSi原子密度を測定した。
(3)飽和レーゾー誘起蛍光法によるラジカルの可視振動回転線のA係数測定法を確立した。
2.赤外レーザー吸収法を用いてCR_4プラズマ内のCFラジカルの密度及び拡散係数を測定した。
3.光イオン化質量分析法を用いて炭化水素系非発光ラジカルの反応速度定数を測定した。
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Report
(1 results)
Research Products
(16 results)
