| Project/Area Number |
02202231
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Institution | Kyoto Institute of Technology |
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Principal Investigator |
奥 彬 京都工芸繊維大学, 工芸学部, 教授 (50027885)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
鎌田 徹 京都工芸繊維大学, 工芸学部, 助手 (30214513)
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| Project Period (FY) |
1990
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1990)
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| Budget Amount *help |
¥2,100,000 (Direct Cost: ¥2,100,000)
Fiscal Year 1990: ¥2,100,000 (Direct Cost: ¥2,100,000)
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| Keywords | クロロフルオロカ-ボン / 特定フロン / ナフタレニド / フロン破壊処理技術 / 還元的処理 / ハロカ-ボン / 回収と再利用 |
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| Research Abstract |
特定フロンの無害化処理法として、我々はナフタレニドを用いた有機塩素物質の還元的脱塩素処理1)がCFCー113ならびにCFCー12の完全脱フッ素化に極めて有効であることを明らかにした2)。そこでは有機性塩素は瞬時に還元脱離するが有機性フッ素の脱離は遅く、高温と添加剤が必要であった。そこで特別の加熱操作や添加剤なしに高効率で脱フッ素化を進行させる方策を考案する必要があると考えた。
本研究では紫外光照射を併用したCFCー113の還元的脱フッ素処理を実施した3)。紫外光照射により室温においても150℃における非照射処理と同程度の脱フッ素化が進行し、またテトラグライム等の還元速度促進剤を加えた加熱処理以上に脱離効率が高くなることが示された。結果的には紫外光照射下では18℃処理時間100分で完全脱フッ素化が実現できることが判明した。紫外光照射が高い還元的脱フッ素化効率を示す理由は、ナフタレンのLUMOに位置する不対電子が照射下でさらに高エネルギ-準位へ励起され還元力を増大することに起因すると考えている。
有害物質の処理で処中間体の構造を知ることは大切である。そこでCFCー113のナフタレニド処理法における中間生成物の構造分析を実施したキャピラリ-GC質量分析から確認された中間体は、ナフタレン、ジヒドロナフタレンにCFCの二炭素単位が1つ、2つ、さらに3つの結合し脱ハロゲン化が完全に進行したものと、フッ素が残存しているものとであった。またCFCー113にベンズアルデヒドを加えて還元処理を行いプロパルギルアルコ-ルが得られた。これはCFCー113から二炭素アニオン種が生成していることを示している。これらに結果から脱ハロゲン化反応経路も推定した。
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