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反応性プラズマの制御

Research Project

Project/Area Number 02214106
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas

Allocation TypeSingle-year Grants
Research InstitutionKyoto University

Principal Investigator

板谷 良平  京都大学, 工学部, 教授 (90025833)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 広瀬 全孝  広島大学, 工学部, 教授 (10034406)
田頭 博昭  北海道大学, 工学部, 教授 (10001174)
籏野 嘉彦  東京工業大学, 理学部, 教授 (90016121)
後藤 俊夫  名古屋大学, 工学部, 教授 (50023255)
菅野 卓雄  東京大学, 工学部, 教授 (50010707)
Project Period (FY) 1990
Project Status Completed (Fiscal Year 1990)
Budget Amount *help
¥11,000,000 (Direct Cost: ¥11,000,000)
Fiscal Year 1990: ¥11,000,000 (Direct Cost: ¥11,000,000)
Keywordsプラズマプロセシング / 反応性プラズマ / プラズマの制御
Research Abstract

本課題は昭和63年度からスタ-トした重点領域研究「反応性プラズマの制御」の総括班として、当領域の研究の方向付けと促進を図るものである。そこで本年度は、第3年度であることをふまえ、平成2年5月初旬に年度初頭の計画研究班会議を開き、昨年までの研究成果の点検と最終年度の実行計画の調整・確認とを行なった。ついで、今年度公募研究の多い班の最終年度としての方向付けを行なうために、レ-ザ-を用いたプラズマ計測に関係する研究会を7月下旬に、また素過程に関する研究会を9月上旬にそれぞれ開催した。
8月上旬から中旬にかけて、米国ヴィスコンシン大学「プラズマ加工工学研究センタ-」より研究者1名を招き、ECRプラズマのプロ-ブ計測、分光学的計測について共同研究を行なうと共に、今後の研究協力について緒端を開いた。
8月下旬には、プラズマ発生に関係するグル-プの研究成果中間報告会を京都大学で開催し、計画研究並びに公募研究について研究進行状況の報告を求め、それぞれの課題について研究の方向に関する討論を行なった。11月中旬に表面反応、シミュレ-ションを含めてプラズマの発生制御に係わる総合的討論の場を設け、班にまたがる研究情報の交換を促進すると共に、次年度における研究とりまとめの方法について相談した。
平成3年2月27〜29日には今年度の研究成果報告会を開催し、予稿集を用意した。また2月29日に総括班会議を開き、今年度の研究成果の評価を行ない、研究とりまとめの方針について議論した。
本年度の成果報告書は、昨年度と同様、上記の予稿集とは別に英文で作成した。

Report

(1 results)
  • 1990 Annual Research Report
  • Research Products

    (1 results)

All Other

All Publications (1 results)

  • [Publications] 板谷 良平: "半導体プロセス用プラズマの特性と制御" 応用物理. 59. 912-916 (1990)

    • Related Report
      1990 Annual Research Report

URL: 

Published: 1990-04-01   Modified: 2016-04-21  

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