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極微小電子線プロ-ブを用いた半導体ー金属界面の研究

Research Project

Project/Area Number 02232214
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas

Allocation TypeSingle-year Grants
Research InstitutionNagoya University

Principal Investigator

田中 信夫  名古屋大学, 工学部, 助教授 (40126876)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 美浜 和弘  名古屋大学, 工学部, 教授 (50023007)
Project Period (FY) 1990
Project Status Completed (Fiscal Year 1990)
Budget Amount *help
¥1,700,000 (Direct Cost: ¥1,700,000)
Fiscal Year 1990: ¥1,700,000 (Direct Cost: ¥1,700,000)
Keywords極微小電子線 / ナノメ-タ-電子回折 / 金属ー半導体界面 / 半導体超格子 / 電子線誘起電流測定
Research Abstract

本研究では、(1)極微小電子回折法を金属ー半導体,半導体ー半導体界面に適用して界面一点一点の構造と組成を評価すると同時に、(2)ナノメ-タ-サイズの極細電子線を使って界面近傍の電子物性を測定する新しい試みを行なう。さらに(3)半導体ー金属界面に電流を流しながら電子顕微鏡観察と極微小電子回折を行なうことを目的としている
課題(1)についてはInP/InGrop歪超格子の界面における歪状態をナノ電子回折で研究し、その界面の歪が上下非対称であることを明らかにした。この結果は第12回国際電子顕微鏡学会で発表し,応用物理学欧文誌に投稿した。
さらにSiO^2/Si界面を断面観察法で高分解能電子顕微鏡観察し、界面近傍に存在すると予想されている特殊構造について研究した。また、Au/Si(111)界面の構造研究をより高分解能で行なったためplanーview観察を行った。
装置の作製としては、シリコンなどの半導体上の吸着構造や界面構造をより制御された条件で作製するためRHEED付きの超高真空チャンバ-を試作した。この装置により、同じ試料についてRHEEDとplanーviewの同時観察を行なうことにより吸着構造や界面構造がより統一的に理解できる。

Report

(1 results)
  • 1990 Annual Research Report
  • Research Products

    (2 results)

All Other

All Publications (2 results)

  • [Publications] N.Tanaka,K.Mihama H.Kakibayashi & K.Ito: "TEMーnanometer area electron diffraction of strained superーlattices" Proc.12th Int.Cong.Electron microscopy. 12. 322-323 (1990)

    • Related Report
      1990 Annual Research Report
  • [Publications] N.Tanaka,K.Mihama & K.Kakibayashi: "Detection of Strain in InP/InGaP Superlattice by Darkーfield Microscopy and Nanoーdiffraction Technique" Jpn.J.Appl.Phys.(1991)

    • Related Report
      1990 Annual Research Report

URL: 

Published: 1990-04-01   Modified: 2016-04-21  

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