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磁性人工格子の界面特性と磁気異方性

Research Project

Project/Area Number 02254220
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas

Allocation TypeSingle-year Grants
Research InstitutionNihon University

Principal Investigator

伊藤 彰義  日本大学, 理工学部・電子工学科, 教授 (60059962)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 中川 活二  日本大学, 理工学部・電子工学科, 助手 (20221442)
Project Period (FY) 1990
Project Status Completed (Fiscal Year 1990)
Budget Amount *help
¥3,500,000 (Direct Cost: ¥3,500,000)
Fiscal Year 1990: ¥3,500,000 (Direct Cost: ¥3,500,000)
Keywordsinーsitu meaurement of stress / Co,Pd artificial lattice / Co,Cu artificial lattice / Co,Au artificial lattice / surface anisotropy / magnetostriction / stress in multilayers
Research Abstract

磁性人工格子における磁気ひずみ、ヤング率、応力などの人工周期依存性を測定し、ひずみ誘導異方性と垂直磁気異方性の関係について考察を重ねてきた。層の界面での垂直異方性の誘起は「界面異方性」と呼ばれているが、具体的機構の解明は十分にはなされていない。
本年度の研究では、「界面異方性」の内、界面での逆磁気ひずみによる成分を明確にすることを一つの目的とし、
(a)膜成長時にin situでの応力の測定をCo/Pd,Co/CuそしてCo/Auについて初めて測定することに成功した。
それにより得られた成果は次の通りである。
(1)上記の貴金属層の上のCo層は全て引っ張り応力を受けている。
(2)逆にCo層上の貴金属層は全て圧縮応力を受けている。
(3)Co/PdおよびCo/Auの場合、応力は1010dyn/cm2であり、それぞれ格子定数の相違から予想される値よりずっと小さい。
(4)しかしコヒ-レントな界面となるCo/Cuの場合は、格子定数差から予想される格子欠陥を含まない場合の臨界せん断応力の値と一致し、それは実際の金属での臨界せん断応力の値を越えている。
更に、垂直磁気異方性との関連を論ずるために
(b)膜全体としての磁気ひずみ測定、応力測定、ヤング率測定
を行ない、逆磁気歪み効果の垂直磁気異方性への寄与は小さい可能性が大きいことを報告した。

Report

(1 results)
  • 1990 Annual Research Report
  • Research Products

    (2 results)

All Other

All Publications (2 results)

  • [Publications] H.Awano,Y.Suzuki,T.Katayama,A.Itoh: "In situ measurement of stress in Co/Cu,Co/Au compositionally modulated multilayer films" Journal of Applied Physics. 68. 4569-4572 (1990)

    • Related Report
      1990 Annual Research Report
  • [Publications] H.Awano,Y.Suzuki,T.Yamazaki,T.Katayama,A.Itoh: "Magnetostriction and INーSITU Measurement of Stress of Co/Pd Compositionally Modulated Multilayer Films During Fabrication" IEEE Transaction on Magnetics. 26. 2742-2744 (1990)

    • Related Report
      1990 Annual Research Report

URL: 

Published: 1990-04-01   Modified: 2016-04-21  

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