| Research Abstract |
ニキビの原因となる菌の発育を阻止するランチオニンペプチド・エピデルミンの全合成を開始するにあたり,まず5残基のアミノ酸がスルフイド結合を介して環化した構造部分を有するN端ペプチドの調製に関する検討を行った。このN端フラグメントのカルボキシル基はメチルエステルとして調製し,フラグメント縮合の段階で遊離とする計画である。しかしなが,以前ランチオニンペプチドの一種ナイシンの合成研究で,環状スルフィドペプチドエステルのケン化収率の向上という問題が未解決のままであった。そこでエピデルミンー(1ー7)と類似の構造を有するナイシンアナログ合成中間体を用いて,ケン化条件の検討を行った。その結果,ジオキサンとメタノ-ルの混合溶媒中,通常のペプチドエステルのケン化に用いられよりはるかに希薄なアルカリ条件下で,温度を5〜10度に保つことにより副反応を伴うことなく,高収率でケ化できることがわかった。次に8位から11位までの環状スルフィドペプチド部の場合は,ケン化条件で環状スルフィド結合が切断されてしまうため,ベンジルエステル誘導体を合成し,アミノ保護基とともにフッ化水素で除去したあとアミノ基のみを保護し直すことにより,一段階操作は増えるが収率は十分向上することがわかった。またベンジルエステルとした方が脱硫反応の収率も向上する。これらの結果はナイシン全合成の収率改善に応用することもできた。さて本研究で用いる原料アミノ酸のうち市製品として入手できない3ーメチルシスティンは,我々が以前に開発した方法で予定通りの調製することができた。一方C端部のSー(2ーアミノビニル)ーDーシステイン残基の調製はやや困難で,現在のところまで成功には至っていない。本研はまだ開始したばかりであり,平成4年度以降も精力的に研究を続行し,出来るだけ早く発表できるような成果を上げたいと考えている。
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