Project/Area Number |
03650637
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Research Category |
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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Allocation Type | Single-year Grants |
Research Field |
工業物理化学・複合材料
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Research Institution | Hokkaido University |
Principal Investigator |
市川 恒樹 北海道大学, 工学部, 講師 (10001942)
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Project Period (FY) |
1991
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Project Status |
Completed (Fiscal Year 1991)
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Budget Amount *help |
¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,300,000)
Fiscal Year 1991: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,300,000)
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Keywords | ポリメチルメタクリレ-ト / レジスト / 主鎖切断 / ERS / ラジカル / 電子スピンエコ- / ベ-タ開裂 |
Research Abstract |
超高密度集積回路用ポジ型放射線レジストとして使用されるポリメチルメタクリレ-ト(PMMA)を放射線照射し、生じるラジカル種をパルスERSによって同定・定量したところ、以下の事実が明らかになった。 (1)放射線照射によってPMMA中に生じる一次ラジカルは、主鎖から水素の取れた2級アルキルラジカル,および側鎖のエステル基のメチル基から水素の取れた側鎖ラジカルの2種類である。 (2)主鎖ラジカルは室湿でほぼ安定であるが、側鎖ラジカルは側鎖脱離によって主鎖3組アルキルラジカルに変化し、さらにこれがβ切断によって主鎖切断を経て主鎖末端ラジカルになる。また断切の一方は二重結合によって安定化する。 (3)PMMAがボジ型レジストとなるのは、4級炭素と2級炭素が交互に配列した主鎖となっているため、側鎖ラジカルから変じた主鎖3級ラジカルがβ切断を生じ易いためである。他のポリマ-でもこのような主鎖構造をもてばポジ型(分解型)レデストとなる。
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