| Project/Area Number |
04205123
|
|---|
| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
|
| Allocation Type | Single-year Grants |
|---|
| Research Institution | Tokyo University of Science |
|---|
Principal Investigator |
加藤 政雄 東京理科大学, 基礎工学部, 教授 (70214400)
|
|---|
| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
長崎 幸夫 東京理科大学, 基礎工学部, 助手 (90198309)
|
|---|
| Project Period (FY) |
1992
|
| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1992)
|
| Budget Amount *help |
¥2,000,000 (Direct Cost: ¥2,000,000)
Fiscal Year 1992: ¥2,000,000 (Direct Cost: ¥2,000,000)
|
|---|
| Keywords | 含ケイ素ポリマー / リチウムジイソプロピルアミド / 4-メチルスチレン / 4-ビニルベンジルリチウム / 4-アリルスチレン / α,p-ジメチルスチレン / 酸素透過膜 / 電子線レジスト |
|---|
| Research Abstract |
本研究は我々が見いだしてきた新規反応をベースとして新しい含ケイ素高分子材料を合成し、その膜特性に関して検討したものである。
我々の見い出したリチウムジイソプロピルアミド(LDA)による4-メチルスチレン(MST)のリチオ化反応は重合官能基を有するカルボアニオン(VBL)を与える。このVBLは新規モノマーあるいはオリゴマー合成の中間体として有用であった。たとえばVBLにクロロシラン化合物を加えると、一段で2つのシリル化が起こり、複数のシリル基を有するモノマーが合成できた。また2つのクロロシリル基を有する化合物を用いると、アニオン重縮合反応が進行し、反応性ビニル基を側鎖に有する含ケイ素オリゴマーが生成した。またこの反応はMSTの代わりにアリルシランを用いても進み、主鎖に反応性オレフィンを有する含ケイ素オリゴマーIが生成した。
LDAによるリチオ化反応は4-アリルスチレンあるいはα,p-ジメチルスチレンなどのモノマーに拡張された。これらのリチオ化およびシリル化反応により、複数のアルキルシリル基を有するアリルスチレン誘導体(II)およびα-メチルスチレン誘導体(III)が合成された。IIはアリル基を有する含ケイ素モノマーであるものの、ラジカル重合により容易に高重合体を与えた。またIIIはアニオン重合により単分散のポリマーを与えた。
オリゴマーIはそれ自身では膜にならないものの、多項膜に担持させ、ガス透過能を求めたところ、高いケイ素含有量に基づく、酸素選択透過特性を有することがわかった(PO_2/PN_2=4.4)。ポリ(II)もまた高い酸素透過選択性を示した。
ポリ(III)は平衡重合能に基づく解重合が期待できるため、薄膜の電子線レジスト特性を検討したところ、ポジ型の挙動を示した。
|
