周波安定化参照共振器用光学素子のレーザ損傷の研究

Research Project

Project/Area Number	04234207
Research Category	Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
Allocation Type	Single-year Grants
Research Institution	Osaka Institute of Technology
Principal Investigator	吉田國雄大阪工業大学, 工学部, 助教授 (70029338)
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha)	瀧川靖雄大阪電気通信大学, 助教授 (80076851)
Project Period (FY)	1992
Project Status	Completed (Fiscal Year 1992)
Budget Amount *help	¥1,700,000 (Direct Cost: ¥1,700,000) Fiscal Year 1992: ¥1,700,000 (Direct Cost: ¥1,700,000)
Keywords	干渉計用光源 / 高フィネス / レーザーによる損傷 / ミラー / 基板 / ヤケ / りん酸塩レーザーガラス / イオンビームエッチング
Research Abstract	干渉計用光源としての周波数安定化レーザーでは、参照共振器の周波数幅が10KH_Zまたはそれ以下で、高フィネス(10000以上)共振器が必要になる。また、高フィネス共振器では、共振器内部の電界強度が極めて高くなるため、ミラーのレーザーによる損傷がレーザー出力の限界を与えるようになる。このように、高フィネスでしかも高い電界強度を考慮したミラーを製作するには、ミラー基板面の超平滑加工,高度な洗浄,パッキング密度が1となるような蒸着法が必要となる。本研究では、ミラー基板を光学研磨した後の洗浄法、あるいは蒸着までの基板の保管法によって発生する基板ガラスのヤケの防止法について調べた。また、発生したヤケの程度が軽い場合は、イオンビームエッチング法によって基板表面の粗さを変化させる事なくヤケを徐去できることを見つけた。先づ、ヤケの発生実験では、りん酸塩レーザーガラスを用い、ガラス表面上を指紋,クリーニング溶剤による拭き残り,クリーンな部分の3ヶ所に分割した。このサンプルガラス表面に各種の保護膜をつけ、ヤケの発生実験を行った。その結果、市販のOpti-Clean Polymerが保護膜として最も優れているのを見つけた。また、ガラス表面が、僅かにヤケている場合は、イオンビームエッチングによってガラスの表面粗さに殆んど影響を与える事なくヤケを除去できた。