| Project/Area Number |
04299107
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Institution | Osaka University |
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Principal Investigator |
平木 昭夫 大阪大学, 工学部, 教授 (50029013)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
伊藤 利道 大阪大学, 工学部, 助教授 (00183004)
寺倉 清之 東京大学, 物性研究所, 教授 (40028212)
安田 幸夫 名古屋大学, 工学部, 教授 (60126951)
大泊 巌 早稲田大学, 理工学部, 教授 (30063720)
菊田 惺志 東京大学, 工学部, 教授 (00010934)
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| Project Period (FY) |
1992
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1992)
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| Budget Amount *help |
¥3,000,000 (Direct Cost: ¥3,000,000)
Fiscal Year 1992: ¥3,000,000 (Direct Cost: ¥3,000,000)
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| Keywords | 金属-半導体界面 / マイクロエレクトロニクス / 界面反応 / 積層界面 |
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| Research Abstract |
平成元年度〜3年度に推進された重点領域研究「金属-半導体界面:マイクロエレクトロニクス発展への基礎研究」で得られた研究成果を取纏め、社会に還元するための会議を開催し、成果報告書の出版を行うことが本研究の目的であった。このため、本研究組織が中心となって、以下のことを遂行または計画している。
1.今年度に開催された2度の応用物理学会でそれぞれシンポジウム「金属-半導体界面」を開催し、特に有用な研究成果を公表した。
2.4班から構成された研究組織により得られた過去3年間の研究成果を、その内容により5章に取纏め、B5版(436頁)の成果報告書として出版した。
3.得られた研究成果の主要部分を取纏め、6章より構成される英文の一般図書として出版する計画を進展させている。
4.日本学術振興会第154委員会の主催で開催予定(1993年11月軽井沢:組織委員長は本重点領域代表者)の「第1回半導体の界面制御に関する国際会議」で、主要な研究成果を口答発表した後、プロシーディング(英文)を出版することにより、得られた研究成果を広く海外にも公表する計画を進めている。
なお、本重点領域研究により、「金属-半導体」積層界面の固相反応とその電子状態とを、原子尺度で理論的・実験的に解明する糸口が得られ、「金属-半導体」界面の制御とその自在な設計を可能とする技術に関する重要な知見が得られた。また、X線を中心とする積層界面の評価技術の向上にも少なからぬ貢献をした。
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