有機ポリシランのUV光分解を利用した新規多数枚印写プロセスの開発

Research Project

Project/Area Number	04555220
Research Category	Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)
Allocation Type	Single-year Grants
Research Field	高分子物性・高分子材料（含機械材料）
Research Institution	Osaka University
Principal Investigator	横山正明大阪大学, 工学部, 教授 (90029281)
Co-Investigator(Kenkyū-buntansha)	平本昌宏大阪大学, 工学部, 助手 (20208854)
Project Period (FY)	1992
Project Status	Completed (Fiscal Year 1992)
Budget Amount *help	¥2,400,000 (Direct Cost: ¥2,400,000) Fiscal Year 1992: ¥2,400,000 (Direct Cost: ¥2,400,000)
Keywords	有機ポリシラン / UV光分解の利用 / 増感プロセスの開発 / 多数枚印写プロセス / 静電印写プロセス
Research Abstract	従来の炭素系ポリマーと異なり主鎖にSi連鎖を有する有機ポリシランがSi-Si結合に由来する新しい機能が期待されることから,新規な機能性材料として注目を集めている。本研究では、有機ポリシランに特徴的な物理的性質である優れたホール輸送能とその化学的性質であるUV光分解を巧みに組み合せることによって考案されたUV光書込みによる印写マスターを用いた一度の像露光で多数枚の複写が可能な新規プロセスを開発し,その実用化に向けてのUV光分解の増感プロセスの探索とシステムの簡略化のためのデバイスの構築を目的とした。その結果、(1)トリアジン系化合物の添加によって有機ポリシランのUV光分解が2〜3倍促進され,その増感剤に適当な置換基を導入するこによって波長増感も可能であることを見い出し、マスター版の作製時間を著しく短縮することを可能にし,目的が達成された。(2)先に提案した印写プロセスでは、印写マスターを用いて通常の電子写真プロセスと同様に,帯電,可視光全面露光、トナー現象,転写、定着の5基本過程の操返しを必要としたが、今回新らたに有機ポリシランへのホール注入可能な電極基板を探索することによって,可視光全面露光を省略し得るデバイスを考案し,静電印写プロセスの開発と印写プロセスの簡略化を達成し,本研究課題の目的である有機ボリシランのUV光分解を利用した新規多数枚印写プロセスを確立し,より実用化への道を開くことができた。