| Project/Area Number |
05234225
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Institution | University of Shizuoka |
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Principal Investigator |
阿知波 一雄 静岡県立大学, 薬学部, 教授 (10012626)
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| Project Period (FY) |
1993
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1993)
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| Budget Amount *help |
¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
Fiscal Year 1993: ¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
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| Keywords | 光学活性体 / 不斉触媒 / 不斉合成 / ホスフィン配位子 / 不斉配位子 / 錯体触媒 / 不斉アリル化 / 不斉ヒドロアリール化 |
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| Research Abstract |
光学活性体を効率的に合成するためには、高効率な触媒的不斉合成法が有用であり、我々はすでに独自の配位子設計コンセプトを提出し、多くの高効率不斉ビスホスフィン配位子を開発し、それらのRhやRu錯体触媒を用いる非常に高い不斉収率での不斉水素化を実現してきている。またそれらを用いる幾つかの光学活性な生理活性化合物や天然物の全合成を実現して来ている。一般的なビジホスフィン配位子においてジアリールホスフィノ基の立体配座を表示するP/M-chiralityのコンセプトを提出し、触媒配位子の立体配座と生成物の絶対配置との一般的関係を明らかにし、またホスフィノ基以外の隣接基により生成物の立体に大きな影響を与えることを明らかにした。さらに遷移金属と7員環の錯体を形成する配位子での隣接基の効果については明らかにされていなかったので、ノルボルナン骨格を有し各種の隣接関与基をもつ新しい不斉配位子(BHMP類)を設計しその効率的な合成法を開発した。さらにそれらのPd錯体触媒を用いるカルバニオンの不斉アリル化反応を検討し、隣接基によるエナンチオ選択性の改善を実現した。また既に研究者によって、オレフィンのヒドロシリル化において比較的高いエナンチオ選択性を示すことが明らかにされているモノホスフィン配位子である各種のスルホニルアミノホスフィン(Ms-Valphos類)のPd錯体を触媒とするオレフィンやエナミドの不斉ヒドロアリール化反応を検討し、従来の配位子よりも高いエナンチオ選択性を実現した。
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