| Project/Area Number |
05750283
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Electronic materials/Electric materials
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
久保野 敦史 東京工業大学, 工学部, 教務職員 (70234507)
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| Project Period (FY) |
1993
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1993)
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| Budget Amount *help |
¥800,000 (Direct Cost: ¥800,000)
Fiscal Year 1993: ¥800,000 (Direct Cost: ¥800,000)
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| Keywords | 真空蒸着 / 有機薄膜 / 機能性高分子 / 蒸着重合 / 超格子 / ポリイミド / ポリアミド / 吸着 |
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| Research Abstract |
1.電離真空計、水晶振動子式マイクロバランスを用い、吸着挙動を解析し2種類のモノマーが交互に累積していることを確認した。また、各分子の平均基板滞在時間を求め、さらに恒温槽を用いて基板温度を正確にコントロールすることにより、基板上への分子の吸着エネルギーを求めることができた。このようにして求めた吸着エネルギーは基板の種類によって変化することが明らかになった。有機分子の吸着特性は今まで研究されていなかったが、この方法により解析することができるようになり、有機分子の蒸着における基礎特性を研究することが可能になった。
2.蒸着条件を巧みに制御することにより、今まで困難であるとされていたポリウレタン薄膜の蒸着重合に世界で初めて成功し、新たな圧・焦電材料を開発することができた。また、薄膜中で分子鎖は基板に対して平行方向に配列し、双極子は基板に対して垂直方向に配向していることが明らかになった。
3.電場を印加することによる薄膜中の双極子配向を試み、偏光赤外吸収分析により双極子配向を評価した。PVDF蒸着薄膜に櫛形電極基板を用いて基板面内で電場を印加したところ、バルクよりもかなり低い温度及び電場で双極子が配向することが明らかになった。このことより、蒸着膜における双極子配向の優位性が示され、櫛形電極基板を用いた電場印加が電子・光機能性高分子薄膜の実用化に非常に有効な方法であることが示唆された。
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