活性酸素による遺伝子傷害ならびにその防御機構-過酸化金属ラジカルでの応用-

• Project/Area Number: 05857260
• Research Category: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Research Field: Biological pharmacy
• Research Institution: Nihon University
• Principal Investigator: 山中 健三 日本大学, 薬学部, 講師 (50182572)
• Project Period (FY): 1993
• Project Status: Completed (Fiscal Year 1993)
• Budget Amount: ¥1,000,000 (Direct Cost: ¥1,000,000); Fiscal Year 1993: ¥1,000,000 (Direct Cost: ¥1,000,000)
• Keywords: DNA付加体 / ジメチル砒素過酸化ラジカル / ジメチルアルシン酸

Research Abstract

砒素化合物の肺特異的遺伝子傷害(DNA一本鎖切断、DNA-蛋白クロスリンク)はその大部分が代謝過程で生ずるジメチル砒素過酸化ラジカルに起因することを見いだしている。本研究はこのジメチル砒素過酸化ラジカルのDNAとの反応特異性、およびDNA付加体形成を明らかにすることを中心に検討した。以下、得られた結果について記す。
アルシン誘導体を合成し、光照射により生ずる砒素過酸化ラジカルをモデルとして、核酸塩基との反応性を分光学的に調べた結果、グアニンに特異的に波反応することが認められた。
ジメチルアルシン酸から代謝的に生成する砒素過酸化ラジカルの遺伝子傷害を培養細胞を用いて検討した結果、DNA付加形成によるDNA修復合成が誘導されることを見いだし、さらにこのDNA付加体に対して少なくとも二種類以上の修復合成が誘導されることを明らかにした。
以上の結果から、活性酸素の一つである砒素過酸化ラジカルの主なDNA傷害作用はヒドロキシラジカルの様なDNA一本鎖切断作用とは異なり、修飾DNA形成作用であると考えられた。今後、付加体の固定、確認のため鋭意検討するとともに、さらにこの付加体の修復機構の詳細を解明することで、傷害防御法の糸口を見つけだす予定である。