| Project/Area Number |
07246109
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Institution | Keio University |
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Principal Investigator |
佐々木 敬介 慶應義塾大学, 理工学部, 教授 (00051425)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
谷内 哲夫 東北大学, 金属材料研究所, 助教授 (80260446)
岡本 尚道 静岡大学, 工学部, 教授 (40022173)
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| Project Period (FY) |
1995 – 1997
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1997)
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| Budget Amount *help |
¥46,900,000 (Direct Cost: ¥46,900,000)
Fiscal Year 1997: ¥7,300,000 (Direct Cost: ¥7,300,000)
Fiscal Year 1996: ¥22,300,000 (Direct Cost: ¥22,300,000)
Fiscal Year 1995: ¥17,300,000 (Direct Cost: ¥17,300,000)
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| Keywords | 非線形光学 / 波長変換 / 電気光学変調 / 光増幅器 / 光ソリトン / ポールドポリマー導波路 / 光変調 / ソリトンジェネレーター / ソリトンパルス / 光ファイバー増幅 |
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| Research Abstract |
高分子非線形光学材料は、大きな非線形性、高速な応答速度等の観点から薄膜光導波路構造を用いた波長変換素子や光変調器への応用が期待される。高効率な波長変換や広帯域電気光学変調を実現するためには、チャネル型光導波路及びχ(2)回折格子の作製が必要となる。本研究では、非線形高分子薄膜上に電子線を照射し、非線形性の消去あるいは高分子の主鎖切断によるエッチングによってチャネル型光導波路パターンを作製する、電子直接描画法を提案した。この方法は、高分子薄膜上に微細かつ大面積のパターンを1回の工程で実現することができる。このような特徴を活かして、電子線直接描画による非線形高分子光導波路のパターンを作製し、かつサブミクロンオーダの微細χ(2)周期構造パターンを高分子上に形成することに成功した。
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