• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to previous page

簡便な次世代用感光性ポリベンズオキサゾールの開発

Research Project

Project/Area Number 07J07758
Research Category

Grant-in-Aid for JSPS Fellows

Allocation TypeSingle-year Grants
Section国内
Research Field Polymer chemistry
Research InstitutionTokyo Institute of Technology

Principal Investigator

小倉 知士  Tokyo Institute of Technology, 大学院・理工学研究科, 特別研究員(DC1)

Project Period (FY) 2007 – 2009
Project Status Completed (Fiscal Year 2009)
Budget Amount *help
¥2,700,000 (Direct Cost: ¥2,700,000)
Fiscal Year 2009: ¥900,000 (Direct Cost: ¥900,000)
Fiscal Year 2008: ¥900,000 (Direct Cost: ¥900,000)
Fiscal Year 2007: ¥900,000 (Direct Cost: ¥900,000)
Keywords感光性ポリベンズオキサゾール / ポリ(0-ヒドロキシアミド) / 化学増幅型 / 光酸発生剤 / 溶解抑止剤 / 低温環化 / 熱酸発生剤 / フォトレジスト / 溶解調整剤 / ポリ(o-ヒドロキシアミド) / フオトレジスト / 感光性ポリベンゾオキサゾール / ポリ(ο-ヒドロキシアミド) / 活性エステル / エステル化合成 / スカンジウムトリフラート / 1-ヒドロキシベンゾトリアゾール / 2-メルカプトベンゾチアゾール
Research Abstract

当年度は、ポリ(0-ヒドロキシアミド)(PHA)の低温環化触媒の検討と感光性ポリベンズオキサゾール(PSPBO)への応用を検討した。低温環化触媒としてスルホン酸類が有用である事を既に見出だしているので、熱分解によりスルホン酸を発生する熱酸発生剤として、イソプロピルトルエンスルホネート(ITS)の合成を行った。ITSを含有したPHAフィルムの環化をFT-IRで測定したところ、250℃までに環化が完了する事が分かり、ITSは低温環化触媒として利用可能であることが分かった。ITSを用いた低温環化可能な化学増幅型PSPBOの検討を行った。PHA(73wt%)、溶解抑止剤として前年度に開発した9,9-ビス(4-tert-ブトキシカルボニルオキシフェニレン)フルオレン(t-BocBHF)(18wt%)、熱酸発生剤であるITS(7.5wt%)、光酸発生剤に(5-プロピルスルホニルオキシイミノ-5H-チオフェン-2-イリデン)-(2-メチルフェニル)アセトニトリル(PTMA)(1.5wt%)をシクロヘキサノンに溶かしPSPBOを調整した。このPSPBOは、高感度(33mJ/cm^2)、高コントラスト(5.1)を示し、接触露光法により線幅3μmの良好なポジ型パターンを得る事が出来た。また、このパターンを250℃で熱処理を行う事でPBOパターンが得られた。ITSは、熱のみでなく酸でも分解することが分かり、PSPBO内では露光部においてPTMAの酸によって酸増殖剤として働き、非常に少ないPTMA添加量でもパターン形成可能であることが分かった。この結果、このPSPBOは透明性に優れ、膜厚10μmの厚膜フィルムにおいて20μmの線幅のパターンを作成できた。以上よりt-Boc BHF、ITSを用いる事で、混ぜるだけで調整可能であり低温環化可能な化学増幅型PSPBOの開発に成功した。

Report

(3 results)
  • 2009 Annual Research Report
  • 2008 Annual Research Report
  • 2007 Annual Research Report
  • Research Products

    (10 results)

All 2010 2009

All Journal Article (4 results) (of which Peer Reviewed: 4 results) Presentation (6 results)

  • [Journal Article] Low-CTE Photosensitive Polyimide Based on Semi-alicyclic Poly(amicacid)and Photobase Generato2010

    • Author(s)
      Ogura, T., Higashihara, T., Ueda, M
    • Journal Title

      Journal of Polymer Science Part A : Polymer Chemistry 48

      Pages: 1317-1323

    • Related Report
      2009 Annual Research Report
    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Pattern Formation of Polyimide by Using Photosensitive Polybenzoxazole as a Top Layer2010

    • Author(s)
      Ogura, T., Higashihara, T., Ueda, M
    • Journal Title

      European Polymer Journal (未定, In Press)

    • Related Report
      2009 Annual Research Report
    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Development of Photosensitive Poly(benzoxazole)Based on a Poly(o-hydroxy amide), a Dissolution Inhibitor, and a Photoacid Generator2009

    • Author(s)
      Ogura, T., Higashihara, T., Ueda, M
    • Journal Title

      Journal of Photopolymer Science and Technology 22

      Pages: 429-435

    • Related Report
      2009 Annual Research Report
    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Direct Patterning of Poly(amic acid)and Low-temperature Imidization Using a Crosslinker, a Photoacid Generator, and a Thermobase Generator2009

    • Author(s)
      Ogura, T., Higashihara, T., Ueda, M.
    • Journal Title

      Journal of Polymer Science Part A : Polymer Chemistry 47

      Pages: 3362-3369

    • Related Report
      2009 Annual Research Report
    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 低熱膨張性半脂環式ポリイミドの感光性化2010

    • Author(s)
      小倉知士, 東原知哉, 上田充
    • Organizer
      第24回 エレクトロニクス実装学会講演大会
    • Place of Presentation
      東京
    • Year and Date
      2010-03-11
    • Related Report
      2009 Annual Research Report
  • [Presentation] Photosensitive Polyimide Utilizing Two-layer System2010

    • Author(s)
      小倉知士, 東原知哉, 上田充
    • Organizer
      Advanced Polymeric Materials and Technology Symposium
    • Place of Presentation
      Jeju, Korea
    • Year and Date
      2010-01-26
    • Related Report
      2009 Annual Research Report
  • [Presentation] Low-CTEポリイミド前駆体を用いた感光性ポリイミドの開発2009

    • Author(s)
      小倉知士, 東原知哉, 上田充
    • Organizer
      第17回日本ポリイミド芳香族系高分子会議
    • Place of Presentation
      盛岡
    • Year and Date
      2009-10-16
    • Related Report
      2009 Annual Research Report
  • [Presentation] Synthesis of Dissolution Inhibitor for Photosensitive Polybenzoxazole2009

    • Author(s)
      小倉知士, 東原知哉, 上田充
    • Organizer
      238<th> ACS National Meeting
    • Place of Presentation
      Washington D.C, USA
    • Year and Date
      2009-08-18
    • Related Report
      2009 Annual Research Report
  • [Presentation] ポリ(o-ヒドロキシアミド)、溶解抑止剤、光酸発生剤からなる感光性ポリベンズオキサゾールの開発2009

    • Author(s)
      小倉知士, 東原知哉, 上田充
    • Organizer
      第26回国際フォトポリマーコンファレンス
    • Place of Presentation
      千葉
    • Year and Date
      2009-07-01
    • Related Report
      2009 Annual Research Report
  • [Presentation] ポリアミック酸, 架橋剤, 光酸発生剤, 熱塩基発生剤からなる低温環化可能なポジ型感光性ポリイミド2009

    • Author(s)
      小倉知士, 東原知哉, 上田充
    • Organizer
      58回高分子学会年次大会
    • Place of Presentation
      神戸
    • Year and Date
      2009-05-28
    • Related Report
      2009 Annual Research Report

URL: 

Published: 2007-04-01   Modified: 2024-03-26  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi