光学活性スピロシランを鍵構造とする新規キラルらせん高分子の開発
| Project/Area Number |
08246232
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Institution | Kyoto University |
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Principal Investigator |
玉尾 皓平 京都大学, 化学研究所, 教授 (60026218)
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| Project Period (FY) |
1996
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1996)
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| Budget Amount *help |
¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
Fiscal Year 1996: ¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
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| Keywords | スピロシラン / らせん高分子 / 分子内ヒドロシリル化 / 不斉ヒドロシリル化 / SILOP |
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| Research Abstract |
本研究は,新規光学活性らせん高分子として光学活性スピロシランとオリゴチオフェンとを鍵構造とする高分子の開発を主目的とする.光学活性スピロシラン骨格の導入により,生成する高分子は絶対配置が一義的に制御された堅固ならせん構造をとることが予想される。触媒的不斉分子内ヒドロシリル化および触媒的カップリング反応などの有機合成的手法を駆使し,その合成について検討を図るものである。本年度の成果は以下のようにまとめられる.
1.光学活性とスピロシラン骨格の構築
モノマーユニットとなるキラルなスピロシラン骨格の構築を,触媒的不斉分子内ヒドロシリル化反応により達成した.2,3‐ジブロモチオフェンから出発し,2過程でチオフェン環を含むビスアルケニルジヒドロシランを合成した.これを原料として用い,そして最近我々が自ら開発した新規不斉配位子TBDM‐SILOPを用いたロジウム触媒不斉分子内ヒドロシリル化を行い,目的とする光学活性スピロシラン,spirobi(siloleno〔3,2‐b〕thiophene)誘導体,を合成することに成功した.
2.光学活性スピロシランの官能基化
得られたスピロシランの高分子化の手法として遷移金属触媒によるカップリングが考えられる.それに必要なスズあるいはハロゲンといった官能基のスピロシランへの導入について検討し,ジスタンニル化スピロシランおよびジブロモスピロシランを得ることに成功した.
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Research Products
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