| Project/Area Number |
08874038
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Exploratory Research
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
物理学一般
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| Research Institution | The University of Tokyo |
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Principal Investigator |
寺嶋 和夫 東京大学, 大学院・工学系研究科, 助教授 (30176911)
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| Project Period (FY) |
1996 – 1997
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1997)
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| Budget Amount *help |
¥2,400,000 (Direct Cost: ¥2,400,000)
Fiscal Year 1997: ¥1,000,000 (Direct Cost: ¥1,000,000)
Fiscal Year 1996: ¥1,400,000 (Direct Cost: ¥1,400,000)
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| Keywords | ナノスケールワールド / エキゾチックプラズマ / マイクロスケールプラズマ / ピエゾアクチュエーター / リソグラフィー / プラズマ環境STM / プラズマ-固体界面 / マイクロ・プラズマ / ナノスケール・プラズマ / マルチプローブ / 微小ラングミュアープローブ法 / 超高密度プラズマ |
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| Research Abstract |
(1)リソグラフィー電極を用いたマイクロスケールプラズマの発生
半導体リソグラフィー技術により、作製したミクロンオーダーのギャップ電極を用いプラズマの発生に成功した。プラズマ生成におけるパッションのルールのマイクロスケールの世界での成立を確認するなどマイクロスケールでのプラズマ発生法の大きな手法となることが期待される。
(2)プラズマ環境STMの開発
プラズマの極小領域(ナノワールド)物性以下のような新たな要素技術の開発を行ない、その集積としてのプラズマ環境STMのを完成させた。
(A)プラズマ環境STM用プローブ(ガラス被覆/先端数μm露出/Pt-Ir製)の開発
(B)プラズマ環境STM用耐高電圧(1kV)高精度(10fA)電流計の開発
(C)プラズマ環境STM用チャンバー(2重防振構造)の作製
(D)プラズマ環境STM用コンパクト高周波(440MHZ)プラズマ発生装置の作製
上記装置を用い、STMの標準試料であるHOPG高配向性グラファイトのプラズマ照射下でのSTM観察を行ない、ナノステップ像および格子像観察に成功を収めた。プラズマ環境下での固体表面のナノ構造STM観察に成功した本研究は、ナノスケールでの固体-プラズマ界面研究の新たな扉を切り開くものである。
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