隣接フェイシャル反応場を基軸とする新規レニウム錯体の合成と機能の開発
| Project/Area Number |
09875225
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Exploratory Research
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Synthetic chemistry
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| Research Institution | Tokyo University of Agriculture and Technology |
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Principal Investigator |
小宮 三四郎 東京農工大学, 工学部, 教授 (00111667)
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| Project Period (FY) |
1997
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1997)
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| Budget Amount *help |
¥2,000,000 (Direct Cost: ¥2,000,000)
Fiscal Year 1997: ¥2,000,000 (Direct Cost: ¥2,000,000)
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| Keywords | 隣接フェイシャル反応場 / 三座ホスフィン配位子 / レニウム錯体 |
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| Research Abstract |
隣接フェイシャル反応場をレニウム上に構築するために、labileな配位子の1つであると考えられるエチレンを持つ三座配位ホスフィンレニウム錯体の合成を行った。
既知の錯体であるReCl_3(etp)[etp=PhP(C_2H_4PPh_2)_2]をエチルリチウムで還元することによりビスエチレンヒドリドレニウム錯体mer-ReH(C_2H_4)_2(etp)を収率75%で得た。この錯体のX線結晶構造解析によりその分子構造を解明した。この錯体は10atmの一酸化炭素との反応により1つのエチレンが脱離し、etp配位子によって構成されるエクアトリアル平面に一酸化炭素が1分子配位したmer-ReH(C_2H_4)(CO)_2(etp)を与えた。この錯体の構造分子はX線結晶構造解析により解明した。また、mer-ReH(C_2H_4)_2(etp)に過剰量のジメチルフェニルホスフィンを加えたところ、興味深いことに三座配位子がフェイシャルに配位した錯体fac-ReH(C_2H_4)(PMe_2Ph)(etp)を与えた。この錯体はmer-ReCl_3(PMe_2Ph)_3とETPの反応によって得られた常磁性錯体ReCl_3(PMe_2Ph)(etp)をエチルリチウムによって還元することによっても合成された。
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Report
(1 results)
Research Products
(10 results)
