| Project/Area Number |
09J09366
|
|---|
| Research Category |
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
|
| Allocation Type | Single-year Grants |
|---|
| Section | 国内 |
|---|
| Research Field |
Polymer chemistry
|
|---|
| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
|---|
Principal Investigator |
鈴木 康夫 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 特別研究員(DC1)
|
|---|
| Project Period (FY) |
2009 – 2011
|
| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2011)
|
| Budget Amount *help |
¥2,100,000 (Direct Cost: ¥2,100,000)
Fiscal Year 2011: ¥700,000 (Direct Cost: ¥700,000)
Fiscal Year 2010: ¥700,000 (Direct Cost: ¥700,000)
Fiscal Year 2009: ¥700,000 (Direct Cost: ¥700,000)
|
|---|
| Keywords | 高屈折率 / 高アッベ数 / スルフィド / スルホン / レンズ材料 / 透明樹脂 / 屈折率 / 高分子 / ポリフェニレンスルフィト / 硫黄 / 光導波路 / 光学デバイス / アッベ数 / チオール |
|---|
| Research Abstract |
デジタルカメラなどに用いられるレンズ用高分子材料としては、高屈折率であることと共に屈折率の低波長分散性(高アッベ数)が求められる。しかしながら、一般的に透明樹脂において、屈折率とアッベ数は二律背反の関係にあり、高分子・高アッベ数を同時に達成するのは困難であるとされている。当研究室では、スルフィドとスルホンを同時に導入したポリチオエーテルスルホンが高屈折率・高アッベ数を示すことを見出しており、様々なポリチオエーテルスルホンを開発してきた。しかしながら、その柔軟な構造のために、いずれのポリチオエーテルスルホンもガラス転移温度が低いという問題があった。そこで、今年度の研究では、それを解決するため、剛直な構造のトリシクロ[5.2.1.0^<2,6>]デカン骨格を含むジチオール・ビスビニルスルホンを設計・合成し、新規ポリチオエーテルスルホンを開発することを目指した。実際にはトリシクロ[5.2.1.0^<2.6>]デカンジチオール及びビス(ビニルスルホニル)トリシクロ[5.2.1.0^<2.6>]デカンをジシクロペンタジエンからそれぞれ2,3段階で合成した。続いてそれぞれのモノマーをジビニルスルホン及び2,5-ビス(スルファニルメチル)-1,4-ジチアンとマイケル付加により重合させ、二種類のポリチオエーテルスルホンを得た。それぞれのガラス転移温度は74,113℃と、これまでのものに比べ大幅に改善された。また、それらは、屈折率1.605,1.623、アッベ数48.0,45.8という高い値を示すこともわかった。特に後者のポリマーは高屈折率・高アッベ数と共に、レンズ材料として実用化に耐えうる高い耐熱性を持つことから、非常に有用な材料であることが示された。
|
