| Project/Area Number |
10130206
|
|---|
| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
|
| Allocation Type | Single-year Grants |
|---|
| Research Institution | The University of Tokyo |
|---|
Principal Investigator |
長尾 忠昭 東京大学, 大学院・理学系研究科, 助手 (40267456)
|
|---|
| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
長谷川 修司 東京大学, 大学院・理学系研究科, 助教授 (00228446)
|
|---|
| Project Period (FY) |
1998
|
| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1998)
|
| Budget Amount *help |
¥2,100,000 (Direct Cost: ¥2,100,000)
Fiscal Year 1998: ¥2,100,000 (Direct Cost: ¥2,100,000)
|
|---|
| Keywords | 表面 / 界面 / エピタクシャル成長 / 磁性 / ナノ構造 |
|---|
| Research Abstract |
本年度は、昨年度に引き続き以下の3つの実験および装置製作を行った。
(1) 薄膜のナノ構造分析のためのELS-LEED(エネルギー損失分析型低速電子回折)装置を完成しその性能評価を行い設計値に近い0.07°の角度分解能と18meVのエネルギー分解能を持つことを確認した。この装置にコバルトやマンガンなどの金属蒸発源を製作後取付け、動作することを確認し磁性超薄膜の試料作成を開始し興味ある研究対象の探索を行った。
(2) (1)と平行して現有の走査トンネル顕微鏡と反射高速電子回折を用いてそれら興味ある薄膜試料の構造評価を行った。
(3) 超高真空中で磁場を印加しながらの4端子法による抵抗測定を行い磁気抵抗などの物性測定が行えるよう装置の準備を進め、実際に測定可能であることを確認した。
|
