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パルスプラズマによるダイヤモンドの低温合成に関する研究

Research Project

Project/Area Number 10750532
Research Category

Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)

Allocation TypeSingle-year Grants
Research Field Material processing/treatments
Research InstitutionChiba Institute of Technology

Principal Investigator

坂本 幸弘  千葉工業大学, 工学部, 講師 (90275959)

Project Period (FY) 1998 – 1999
Project Status Completed (Fiscal Year 1999)
Budget Amount *help
¥2,000,000 (Direct Cost: ¥2,000,000)
Fiscal Year 1999: ¥500,000 (Direct Cost: ¥500,000)
Fiscal Year 1998: ¥1,500,000 (Direct Cost: ¥1,500,000)
KeywordsCVD / ダイヤモンド / 低温合成
Research Abstract

○パルス発振状態を制御可能なパルスマイクロ波電源を用いたダイヤモンド合成について検討した。
連続波および周波数を変化させたパルスマイクロ波プラズマでダイヤモンド合成を行い、生成物をラマン分光分析により膜質の点から評価した結果、200kHz程度のパルス発振マイクロ波を用いて作製したダイヤモンドは連続波で作製したものと比較して膜質の向上が認められた。
○プラズマ発光分光分析の結果、パルスプラズマからの発光強度は、連続波プラズマの発光強度の3倍程度であり、プラズマ密度の向上が、膜質に影響を及ぼしたと考えられる。

Report

(2 results)
  • 1999 Annual Research Report
  • 1998 Annual Research Report
  • Research Products

    (2 results)

All Other

All Publications (2 results)

  • [Publications] Yukihiro Sakamoto: "Effect of substrate bias on the diamond growth using microwave plasma CVD"Journal of Korean Institute of Surface Engineering. 32・3. 303-306 (1999)

    • Related Report
      1999 Annual Research Report
  • [Publications] Y.Sakamoto,M.Takaya: "Effect of substrate bias on the diamond growth using microwave plasma CVD" Asian Finish '98. 85-86 (1998)

    • Related Report
      1998 Annual Research Report

URL: 

Published: 1998-04-01   Modified: 2016-04-21  

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