Project/Area Number |
10750632
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Research Category |
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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Allocation Type | Single-year Grants |
Research Field |
高分子合成
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Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
Principal Investigator |
山口 勲 東京工業大学, 資源科学研究所, 助手 (00272708)
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Project Period (FY) |
1998 – 1999
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Project Status |
Completed (Fiscal Year 1999)
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Budget Amount *help |
¥1,900,000 (Direct Cost: ¥1,900,000)
Fiscal Year 1999: ¥800,000 (Direct Cost: ¥800,000)
Fiscal Year 1998: ¥1,100,000 (Direct Cost: ¥1,100,000)
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Keywords | 光応答性ポリロタキサン / 大環状化合物 / テトラチアフルバレン / 電荷移動錯体 / 光異性化 / アゾベンゼン / パラジウム錯体触媒 / 光応答性部位 / ヒドロキノン / ポリアリーレンエチニレン / 光照射 |
Research Abstract |
本研究は高速度情報処理用デバイス指向の光応答性ポリロタキサンの開発において、より高速な応答を目指して、光応答性部位を高分子鎖中ではなく大環状化合物中に組み入れ、特定光照射により包接位置を制御して劇的な物性の変化をもたらすポリロタキサンを開発することを目的としている。物性の変化は大環状化合物中の電子供与性のテトラチアフルバレンと高分子主鎖中の受容性のヒドロキノン等の電荷移動錯体形成に基づくものである。本年度はポリロタキサンの軸となる電子受容性基のヒドロキノン骨格を有するポリアリーレンエチニレンの合成を行った。さらに、2,6-ジブロモテトラチアフルバレンと、3,3'-ビス(ブロモメチル)アゾベンゼンのカップリング反応により、光異性化構造を有する大環状化合物を合成した。この大環状化合物存在下でパラジウム錯体触媒によるジブロモヒドロキノンと1,4-ジエチニルベンゼンの重縮合反応により目的とするポリロタキサンを合成した。
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