| Project/Area Number |
10875039
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Exploratory Research
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Fluid engineering
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| Research Institution | Tokyo Institute of Technology |
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Principal Investigator |
山根 隆一郎 東京工業大学, 工学部, 教授 (50016424)
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
中川 順達 東京工業大学, 工学部, 助手 (10172280)
大島 修造 東京工業大学, 工学部, 助教授 (20143670)
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| Project Period (FY) |
1998
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 1998)
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| Budget Amount *help |
¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
Fiscal Year 1998: ¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
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| Keywords | 磁気分離 / 濃度分布 / 分散系 / 磁性流体 / 磁気力 |
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| Research Abstract |
本研究グループは長年にわたり電磁力を利用した液体金属流の流動制御,磁気力を利用した界面形状の制御あるいは液滴の位置制御など,磁界や電界による流体の制御の研究を行ってきた。これらはいずれもマクロの現象であるが,強磁界を利用してミクロの現象も制御しようとするのが本研究である。
本研究では電磁力・磁気力を利用した濃度分布の制御法を提案している。実際の濃度分布制御には極めて強い磁界が必要であるが,本研究では希釈した磁性流体を供試流体として用いるため通常の永久磁石程度の弱磁界でも濃度形成の模擬実験が可能である。
具体的には磁性流体に非一様磁界を印加し,本来均質な磁性流体中の濃度分布を変化させ,不均一な濃度分布を形成することができることを実験的に確認し,種々の磁場強さ,磁場分布が形成される濃度分布に及ぼす影響を調べた。
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