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炭素還元法による分岐した炭化ケイ素ウィスカーの合成とそのメカニズム

Research Project

Project/Area Number 11650857
Research Category

Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

Allocation TypeSingle-year Grants
Section一般
Research Field 無機工業化学
Research InstitutionNagoya University

Principal Investigator

徐 元善  名古屋大学, 大学院・工学研究科, 助教授 (30242829)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 河本 邦仁  名古屋大学, 大学院・工学研究科, 教授 (30133094)
Project Period (FY) 1999 – 2000
Project Status Completed (Fiscal Year 2000)
Budget Amount *help
¥3,500,000 (Direct Cost: ¥3,500,000)
Fiscal Year 2000: ¥1,600,000 (Direct Cost: ¥1,600,000)
Fiscal Year 1999: ¥1,900,000 (Direct Cost: ¥1,900,000)
Keywordsウィスカー / シリコンカーバイド / 透過型電子顕微鏡 / モルフォロジー / 積層欠陥 / 成長方向 / SiO_2 / カーボンブラック / 炭素還元法 / 炭化ケイ素 / ウイスカー / 生成反応
Research Abstract

水素ガス中で二酸化珪素(SiO_2)とカーボンブラック(CB)からβ-SiCウィスカーを合成する際の基本合成反応は、SiOとカーボンブラック間での固相-気相反応である。合成されるウィスカーは、形態(morphology)、成長方向(growth direction)、積層欠陥面(stacking-fault planes)から、3つのタイプに分類できる。それらは、(i)タイプAとして、比較的フラットな表面と、成長方向に対して垂直な積層欠陥面を持つタイプ、(ii)Bとして、ラフな表面と、成長方向に対して35°の角度を持った積層欠陥面を有するタイプ、(iii)Cとして、ラフなノコギリ歯状の表面と、3つの異なった{111}面内に同時に積層欠陥面を有するタイプの3種である。TEM(Transmission Electron Microscopy)観察により、歪められて進路を阻害され分岐したウィスカーの角度は125゜、70゜、109゜であることが明らかになった。これらのウィスカーは、タイプAとタイプBのウィスカーから構成されるか、またはタイプAのみから構成される、あるいは、タイプAとタイプBのペアが2つ平行に成長したもののいずれかから構成されている。ウィスカーの進路阻害による歪み、分岐は、それぞれのタイプのウィスカー間で成長速度が異なることと密接な関係があると言える。

Report

(2 results)
  • 2000 Annual Research Report
  • 1999 Annual Research Report
  • Research Products

    (6 results)

All Other

All Publications (6 results)

  • [Publications] W.S.Seo,K.Koumoto: "Stacking Faults in β-SiC Formed during Carbothermal Reduction of SiO_2"J.Am.Ceram.Soc. 79・7. 1777-1782 (1996)

    • Related Report
      2000 Annual Research Report
  • [Publications] W.S.Seo,K.Koumoto,S.Arai: "Effects of Boron, Carbon and Iron Content on the Stacking Fault Formation during Synthesis of β-SiC Particles in the System SiO_2-C-H_2"J.Am.Ceram.Soc. 81.5. 1255-1261 (1998)

    • Related Report
      2000 Annual Research Report
  • [Publications] W.S.Seo,K.Koumoto: "Stacking Fault and Growth Direction of β-SiC Whisker Synthesized by Carbothermal Reduction"Key Eng.Mater. 159.160. 95-100 (1999)

    • Related Report
      2000 Annual Research Report
  • [Publications] W.S.Seo,K.Koumoto: "Morphology and Stacking Faults of β-Silicon Carbide Whisker Synthesized by Carbothermal Reduction"J.Am Ceram.Soc. 83.10. 2584-2592 (2000)

    • Related Report
      2000 Annual Research Report
  • [Publications] W.S.Seo,K.Koumoto: "Stacking Fault and Growth Direction of β-SiC Whisker Synthesized by Carbothermal Reduction"Key Engineering Materials Vols. 159-160. 95-100 (1999)

    • Related Report
      1999 Annual Research Report
  • [Publications] W.S.Seo,K.Koumoto: "Morphology and Stacking Faults of β-SiC Whisker Synthesized by Carbothermal Reduction"J.Am.Ceram.Soc.. (印刷中). (2000)

    • Related Report
      1999 Annual Research Report

URL: 

Published: 1999-04-01   Modified: 2016-04-21  

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