二次元ゾルーゲル法による無機薄膜のナノオーダ構造制御と光・電気化学特性
| Project/Area Number |
12750738
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
工業物理化学
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| Research Institution | Nagasaki University |
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Principal Investigator |
森口 勇 長崎大学, 工学部, 助教授 (40210158)
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| Project Period (FY) |
2000 – 2001
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2001)
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| Budget Amount *help |
¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
Fiscal Year 2001: ¥1,000,000 (Direct Cost: ¥1,000,000)
Fiscal Year 2000: ¥1,200,000 (Direct Cost: ¥1,200,000)
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| Keywords | 金属酸化物超薄膜 / 二次元ゾルーゲル法 / Langmuir-Blodgett / 酸化チタン / 光電流 / 超薄膜 / 二次元ゾル-ゲル法 / 酸化ジルコニウム / 酸化ニオブ / ヘテロ積層膜 |
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| Research Abstract |
本研究は,気水界面でのゾルーゲル反応とLangmuir-Blodgett(LB)法を組み合わせた新しい酸化物超薄膜作製法"二次元ゾルーゲル法"を用いて種々の金属酸化物超薄膜を作製し,さらに得られる薄膜の光・電気化学的特性を解明することを目的としている。昨年度までの研究において,二次元ゾルーゲル法によりTiO_2,ZrO_2,Nb_2O_5超薄膜,(TiO_2/ZrO_2)_nヘテロ積層薄膜が作製できることを明らかにしている。今年度は,得られたゲルおよびTiO_2超薄膜の構造,光・電気化学物性について調べた。以下に,主な研究成果を示す.
1.入射角依存反射率測定より,得られたTiO_2超薄膜の屈折率は2.1であり,TiO_2結晶部分が占める体積充填率は単結晶薄膜を仮定したときの80〜90%程度と見積もられ,本系では非常に高密度のTiO_2超薄膜が形成されていることが明らかとなった。
2.水面上ゲル薄膜についてもin situで入射角依存反射率測定を行い,安定化剤としてn-オクタデシルアセトアセテート(C_<18>AA)を加えたテトラブトキシチタン溶液を展開し,二次元圧縮すると,C_<18>AA単分子膜の水相側界面にTiO_2ゲル連続層が形成されていることが示唆された。
3.二次元ゾルーゲル法で作製した100nm以下の膜厚のTiO_2超薄膜に紫外光を照射すると,膜厚に比例した光電流の発生が認められ,その量子効率は一般にゾルーゲル法で得られる厚膜の値より大きなものであった。
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Report
(2 results)
Research Products
(2 results)
