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量子ビームを用いた3次元ナノ空間制御:機能性デバイスの創製と分析法の開発

Research Project

Project/Area Number 12J09069
Research Category

Grant-in-Aid for JSPS Fellows

Allocation TypeSingle-year Grants
Section国内
Research Field Nuclear engineering
Research InstitutionJapan Atomic Energy Agency

Principal Investigator

大山 智子 (五輪 智子)  独立行政法人日本原子力研究開発機構, 原子力科学研究部門量子ビーム応用研究センター, 特別研究員(PD)

Project Period (FY) 2012 – 2014-03-31
Project Status Declined (Fiscal Year 2013)
Budget Amount *help
¥2,600,000 (Direct Cost: ¥2,600,000)
Fiscal Year 2013: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,300,000)
Fiscal Year 2012: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,300,000)
Keywords量子ビーム / 微細加工 / 天然由来高分子 / レジスト
Research Abstract

平成25年度は「量子ビームを用いた生体適合性高分子の微細加工および改質技術の開発」を中心に研究を行った。研究に用いたポリ乳酸は、生分解性・生体適合性を併せ持つ代表的な医用プラスチックである。微細加工技術が確立されれば、医薬研究におけるバイオチップや医療用マイクロマシン等の産業応用が期待される。本研究では、集束イオンビーム(FIB)照射による物理スパッタと材料の放射線分解反応を利用したポリ乳酸の直接的な削り出し加工を検討した。直径50nm以下に絞った30keVのガリウムFIBを照射し、照射条件(線量・線量率・ビームサイズ・試料の厚さなど)が加工精度に及ぼす影響を調査した。ポリ乳酸はガラス転移温度(約60℃)以上で容易に熱変形を起こすため、加熱されやすい照射条件(高線量・高線量率・大面積照射)や熱が拡散しにくい試料条件(厚い試料)では、表面が荒れたりエッジが丸くなったりと加工精度が劣化した。加工速度と加工精度の詳細な調査から、線量率や試料の作製方法の最適化を行った。その結果、熱変形やデブリの発生が抑制され、直径80nmの穴や幅60nmの溝など精密な微細構造を作ることに成功した。
さらに、FIBがポリ乳酸表面に引き起こす化学変化を利用した機能化についても検討した。照射後の化学結合状態をX線光電子分光法(XPS)で分析した結果、物理スパッタと放射線分解反応による分解物の脱離によって炭素の二重結合(C=C)が増加したことが分かった。高分子材料表面のC=Cの割合によって細胞接着性の強弱が変わることが報告されており、本研究で得られた微細加工体は、局所的に細胞接着性を制御できる医療・バイオデバイスとしての応用が期待される。

Strategy for Future Research Activity

(抄録なし)

Report

(2 results)
  • 2013 Annual Research Report
  • 2012 Annual Research Report
  • Research Products

    (10 results)

All 2014 2013 2012

All Journal Article (4 results) (of which Peer Reviewed: 4 results) Presentation (6 results)

  • [Journal Article] Positive-Negative Dual-Tone Sensitivities of ZEP Resist2014

    • Author(s)
      T. G. Oyama, H. Nakamura, A. Oshima, M. Washio, S. Tagawa
    • Journal Title

      Appl. Phys. Express

      Volume: 7 Issue: 3 Pages: 036501-036501

    • DOI

      10.7567/apex.7.036501

    • Related Report
      2013 Annual Research Report
    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Method of predicting resist sensitivity for 6. x nm extreme ultraviolet lithography2013

    • Author(s)
      T. G. Oyama, A. Oshima, M. Washio, S. Tagawa
    • Journal Title

      J. Vac. Sci. Technol. B.

      Volume: 31 Issue: 4 Pages: 41604-41604

    • DOI

      10.1116/1.4813789

    • Related Report
      2013 Annual Research Report
    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Micro/nanofabrication of poly (L-lactic acid) using focused ion beam direct etching2013

    • Author(s)
      T. G. Oyama, T. Hinata, N. Nagasawa, A. Oshima, M. Washio, S. Tagawa, M. Taguchi
    • Journal Title

      Appl. Phys. Lett.

      Volume: 103 Issue: 16

    • DOI

      10.1063/1.4825277

    • Related Report
      2013 Annual Research Report
    • Peer Reviewed
  • [Journal Article] Fabrication of nanobeads from nanocups by controlling scission/crosslinking in organic polymer materials2012

    • Author(s)
      T. G. Oyama, A. Oshima, M. Washio, S. Tagawa
    • Journal Title

      Nanotechnology

      Volume: 23 Issue: 49 Pages: 495307-495307

    • DOI

      10.1088/0957-4484/23/49/495307

    • Related Report
      2012 Annual Research Report
    • Peer Reviewed
  • [Presentation] 量子ビームを用いたポリ乳酸微細加工体の作製2013

    • Author(s)
      大山智子, 日名田暢, 長澤尚胤, 大島明博, 鷲尾方一, 田川精一, 田口光正
    • Organizer
      第56回放射線化学討論会
    • Place of Presentation
      広島大学東広島キャンパス学士会館(東広島市)
    • Year and Date
      2013-09-28
    • Related Report
      2013 Annual Research Report
  • [Presentation] Prediction of Resist Sensitivity for 13.5nm EUV and 6.xnm EUV extension from Sensitivity for EBL2013

    • Author(s)
      T. G. Oyama
    • Organizer
      2013 SPIE Advanced Lithography
    • Place of Presentation
      San Jose Convention Center (California, USA)
    • Year and Date
      2013-02-27
    • Related Report
      2012 Annual Research Report
  • [Presentation] Prediction method of resist sensitivity for 6.x nm EUVL.2013

    • Author(s)
      T. G. Oyama
    • Organizer
      2nd.International EUV Resist Symposium
    • Place of Presentation
      大阪大学(大阪)
    • Year and Date
      2013-02-14
    • Related Report
      2012 Annual Research Report
  • [Presentation] Prediction of resist sensitivity for extreme ultraviolet lithography at 6.x nm wavelength2012

    • Author(s)
      T. G. Oyama
    • Organizer
      2012 International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography
    • Place of Presentation
      SQUARE Brussels Meeting Centre (Brussels, Belgium)
    • Year and Date
      2012-10-01
    • Related Report
      2012 Annual Research Report
  • [Presentation] Prediction of resist sensitivity for extreme ultraviolet lithography at 6.x nm wavelength2012

    • Author(s)
      T. G. Oyama
    • Organizer
      International Advanced Nanopatterning Materials and Processes Workshop
    • Place of Presentation
      早稲田大学(東京)
    • Year and Date
      2012-07-04
    • Related Report
      2012 Annual Research Report
  • [Presentation] Radiation induced decomposition mechanisms of high-sensitivity chlorinated resists2012

    • Author(s)
      T. G. Oyama
    • Organizer
      International Advanced Nanopatterning Materials and Processes Workshop
    • Place of Presentation
      早稲田大学(東京)
    • Year and Date
      2012-07-03
    • Related Report
      2012 Annual Research Report

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Published: 2013-04-25   Modified: 2024-03-26  

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