微小電気刺激法による歯周組織再生過程で発現する遺伝子の同定

• Project/Area Number: 13771180
• Research Category: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Research Field: 補綴理工系歯学
• Research Institution: Iwate Medical University
• Principal Investigator: 大塚 英幸 岩手医科大学, 歯学部, 助手 (20285638)
• Project Period (FY): 2001 – 2002
• Project Status: Completed (Fiscal Year 2002)
• Budget Amount: ¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000); Fiscal Year 2002: ¥500,000 (Direct Cost: ¥500,000); Fiscal Year 2001: ¥1,700,000 (Direct Cost: ¥1,700,000)
• Keywords: 微小電気刺激 / 骨再生 / GBR法 / 骨形成タンパク質 / PLLA膜 / PTFE膜 / 遺伝子発現

Research Abstract

本申請者は、微小電気刺激を応用したGBR法がインプラント周囲の骨再生を促進する効果を有することを報告したが、そのメカニズムは未だ不明な点が多い。そこで、従来のGBR法と微小電気刺激法を併用したGBR法との創傷治癒過程に及ぼす影響の違いを明らかにすることを目的として、それぞれの方法が骨再生過程に及ぼす影響を免疫組織学的に比較した。
実験は、ラットの大腿骨に人工的骨欠損を作製し、e-PTFE膜(GTAM)および、PLLA膜(吸収性微小電気刺激膜)を用いたGBR法を行い、組織創傷治癒モデルを作製した。術後1、2、2。5および4週目の組織切片を作製し、免疫組織学的観察を行った。その結果、骨再生過程で骨形成タンパクのオステオカルシンの発現様相が両群で異なったことから、微小電気刺激の影響が骨形成タンパクの発現に及ぶことが推測された。以前の研究結果では、骨再生過程の様相が病理組織学的に両群で異なり、微小電気刺激は骨欠損部においてフィルム周囲や骨窩洞窩縁部の骨再生を量的、質的、速度的に促進すること、また、既存骨周囲の骨増生を促進することが示された。本研究結果とあわせて推測すると、微小電気刺激は分子学的にも骨形成を促進する重要な因子であり、骨損傷部周囲の広範囲に影響を及ぼすものと推測された。
今後、骨形成の関連タンパク質として、オステオネクチン、オステオポンチンを対象として同定し、同様に局在や分布に及ぼす影響を詳細に検索する必要があると考えられる。