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微細凹凸構造での微小気泡の吸着・脱離制御に基づく新規メモリデバイスの開発

Research Project

Project/Area Number 16656105
Research Category

Grant-in-Aid for Exploratory Research

Allocation TypeSingle-year Grants
Research Field Electron device/Electronic equipment
Research InstitutionNagaoka University of Technology

Principal Investigator

河合 晃  長岡技術科学大学, 工学部, 助教授 (00251851)

Project Period (FY) 2004 – 2005
Project Status Completed (Fiscal Year 2005)
Budget Amount *help
¥3,400,000 (Direct Cost: ¥3,400,000)
Fiscal Year 2005: ¥1,200,000 (Direct Cost: ¥1,200,000)
Fiscal Year 2004: ¥2,200,000 (Direct Cost: ¥2,200,000)
Keywords微小気泡 / エネルギーバランス変化 / 表面エネルギー / 微細加工 / 吸着 / 環境制御型電子顕微鏡 / ラプラス力 / 貴金属 / プラズモン変化
Research Abstract

今後の情報化産業を支える電子デバイス技術は、貴金属および希土類元素などの貴重な資源を多く消費し、かつ、高集積化の限界が近づき将来性が危惧されている。しかしながら、21世紀の科学の発展では、省資源化および省エネルギー化に基づく新規デバイスの開発が、人間と機械の調和の観点では必要不可欠である。本研究は、微細空間における気泡の吸着及び脱離現象を利用した新機能デバイスの開発を目的とする。気泡の吸着と脱離をメモリデバイスに応用する課題として、選択的に気泡を脱離させる技術の確立が必要不可欠である。このため、本研究では確実にマイクロ経路の中に、微小気泡を捕獲する技術の構築が重要となる。具体的には、凹凸構造内でのエネルギーバランスが崩れることで、気泡は脱離する。本研究においては、気泡制御を基本としたメモリとしての基本動作を実証し、その発展性を検証する。本年度では、マイクロ経路の形状を変えることで、微小凹凸構造での気泡の吸着・吸着現象を確認できた。今後、デバイス動作のために多くの解決すべき課題が存在する。そこで、デバイス実現の可能性を検証することを重要視し、デバイス動作の高精度化や安定性は次年度に位置付けている。本研究は、微小凹凸構造における個々の気泡の制御に関するものであり、これまでに研究例がなく、斬新な成果が期待できる。本研究期間には、原著論文6報、国際学会発表7件、国内学会発表4件の成果発表を行った。気泡制御に関する基礎調査および講演発表として、オーストリアで開催されるNME2005国際学会に出席した。また、国際会議であるMNC2005で発表した。また、実験研究成果は、J.Photopolymer Science & Technologyなどの学術雑誌で発表した。

Report

(2 results)
  • 2005 Annual Research Report
  • 2004 Annual Research Report
  • Research Products

    (16 results)

All 2006 2005 2004

All Journal Article (16 results)

  • [Journal Article] Removal mechanism of nano-bubble with AFM for Immersion Lithography2006

    • Author(s)
      Akira Kawai, Kenta Suzuki
    • Journal Title

      Microelectronic Engineering (in press)

    • Related Report
      2005 Annual Research Report
  • [Journal Article] Adhesion Improvement of ArF Resist Pattern Depending on BARC Material2006

    • Author(s)
      Akira Kawai, Takahiro Moriuchi, Takayoshi Niiyama
    • Journal Title

      Microelectronic Engineering (in press)

    • Related Report
      2005 Annual Research Report
  • [Journal Article] Condensation Mechanism of Micro Bubbles Depending on DFR Pattern Design2006

    • Author(s)
      Akira Kawai, Hotaka Endo, Tomotaka Ariga
    • Journal Title

      Microelectronic Engineering (in press)

    • Related Report
      2005 Annual Research Report
  • [Journal Article] Condensation Behavior of nanoscale bubbles on ArF excimer resist surface analyzed by atomic force microscope2005

    • Author(s)
      Akira Kawai
    • Journal Title

      J.Photopolymer Sci.Technol. 18(3)

      Pages: 349-349

    • NAID

      130004833035

    • Related Report
      2005 Annual Research Report
  • [Journal Article] Deflection Analysis of Micro Cantilever due to Water Vapor Adsorption2005

    • Author(s)
      Akira Kawai, Takahiro Moriuchi
    • Journal Title

      J.Photopolymer Sci.Technol. 18(6)

      Pages: 681-681

    • NAID

      130004464459

    • Related Report
      2005 Annual Research Report
  • [Journal Article] Dot Pattern Collapse due to Laplace Force Analyzed by Dynamical Meniscus Model2005

    • Author(s)
      Akira Kawai, Kenta Suzuki
    • Journal Title

      J.Photopolymer Sci.Technol. 18(6)

      Pages: 679-679

    • NAID

      130004464458

    • Related Report
      2005 Annual Research Report
  • [Journal Article] Cohesion property of resist pattern surface analyzed by tip indentation method2004

    • Author(s)
      Akira Kawai
    • Journal Title

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      Pages: 441-448

    • NAID

      130004464370

    • Related Report
      2004 Annual Research Report
  • [Journal Article] Interaction force analysis of resist film surface in water vapor2004

    • Author(s)
      Takayoshi Niiyama, Akira Kawai
    • Journal Title

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      Pages: 453-456

    • NAID

      130004464372

    • Related Report
      2004 Annual Research Report
  • [Journal Article] Meniscus analysis in microgap during liquid drying process2004

    • Author(s)
      Atsushi Ishikawa, Makoto Sakata, Akira Kawai
    • Journal Title

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      Pages: 457-460

    • NAID

      130004464373

    • Related Report
      2004 Annual Research Report
  • [Journal Article] Analysis of drying behavior of rinse water depended on resist pattern arrangement2004

    • Author(s)
      Akira Kawai, Masahito Hirano, Takayoshi Niiyama
    • Journal Title

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      Pages: 461-464

    • Related Report
      2004 Annual Research Report
  • [Journal Article] Cohesion property of polymer aggregate depending on hardening treatment2004

    • Author(s)
      Atsushi Ishikawa, Takashi Tanji, Akira Kawai
    • Journal Title

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      Pages: 99-102

    • NAID

      130004832985

    • Related Report
      2004 Annual Research Report
  • [Journal Article] Viscous finger pattern formed in photoresist film during heat treatment2004

    • Author(s)
      Akira Kawai, Akihito Seki, Hotaka Endo
    • Journal Title

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      Pages: 103-104

    • NAID

      130004832955

    • Related Report
      2004 Annual Research Report
  • [Journal Article] Micro bubbles captured at micro defect on resist film2004

    • Author(s)
      Hotaka Endo, Akira Kawai
    • Journal Title

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      Pages: 105-106

    • NAID

      130004832956

    • Related Report
      2004 Annual Research Report
  • [Journal Article] Pinning effect of micro drops on geometrical complex substrates composed with different surface energy material2004

    • Author(s)
      Masaki Yamanaka, Akira Okada, Akira Kawai
    • Journal Title

      J.Vac.Sci.& Technol B22

      Pages: 3525-3527

    • Related Report
      2004 Annual Research Report
  • [Journal Article] Determination of Young's modulus of polymer aggregate based on Hertz theory2004

    • Author(s)
      Atsushi Ishikawa, Takashi Tanji, Akira Kawai
    • Journal Title

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      Pages: 715-718

    • NAID

      130004832992

    • Related Report
      2004 Annual Research Report
  • [Journal Article] Adhesion mechanism of micro bubbles on ArF and F2 excimer resists2004

    • Author(s)
      Hotaka Endo, Akira Kawai
    • Journal Title

      Journal of Photopolymer Science and Technology 17

      Pages: 713-714

    • NAID

      130004832991

    • Related Report
      2004 Annual Research Report

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Published: 2004-04-01   Modified: 2016-04-21  

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