| Project/Area Number |
16H04256
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Section | 一般 |
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| Research Field |
Design engineering/Machine functional elements/Tribology
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| Research Institution | Gifu University |
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Principal Investigator |
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| Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
太田 貴之 名城大学, 理工学部, 教授 (10379612)
小田 昭紀 千葉工業大学, 工学部, 教授 (70335090)
村島 基之 名古屋大学, 工学研究科, 助教 (70779389)
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| Project Period (FY) |
2016-04-01 – 2019-03-31
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2018)
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| Budget Amount *help |
¥17,420,000 (Direct Cost: ¥13,400,000、Indirect Cost: ¥4,020,000)
Fiscal Year 2018: ¥2,340,000 (Direct Cost: ¥1,800,000、Indirect Cost: ¥540,000)
Fiscal Year 2017: ¥7,020,000 (Direct Cost: ¥5,400,000、Indirect Cost: ¥1,620,000)
Fiscal Year 2016: ¥8,060,000 (Direct Cost: ¥6,200,000、Indirect Cost: ¥1,860,000)
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| Keywords | 超高速成膜 / シリコン含有ダイヤモンドライクカーボン / 低摩擦 / トライボロジー / プラズマCVD / スパッタリング / プラズマシミュレーション / 表面分析 / シリコン含有ダイヤモンドライクカーボン膜 / 超低摩擦 / Si-DLC膜 / マイクロ波 / プラズマ / シリコン含有ダイヤモンドラークカーボン膜 / プロズマCVD / プラズマシミュレ―ション / プラズマ加工 / ダイヤモンドライクカーボン / プラズマ気相蒸着 |
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| Outline of Final Research Achievements |
Friction behavior of the sliding between steel ball and a-C:H:Si films, which were deposited at ultra-high-speed larger than 100 mirometer/h, was clarified. Friction tests were conducted in ambient air with relative humidities from 10 to 50 %. Friction coefficient of the a-C:H:Si films after running-in showed 0.05 to 0.12, which increased with increasing RH. For comparison, an a-C:H film was deposited with DC plasma CVD, and its friction coefficient after running-in showed 0.2 to 0.5, which also increased with increasing RH. In all the humidity range employed, friction of the a-C:H:Si was less than that of the a-C:H; in addition, dependence of friction coefficient on humidity of the a-C:H:Si was smaller than that of the a-C:H.
It should be noted that the influence of as-deposit film structure on the expression of low-friction and the structure of sliding interface were also clarified by detailed surface analysis using XPS, RBS-ERDA, and Raman spectroscopy.
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| Academic Significance and Societal Importance of the Research Achievements |
100μm/h以上の超高速で成膜されたa-C:H:Si膜が，従来の方法で合成されたa-C:H:Si膜と同様に低摩擦を発現することがはじめて確認された．100μm/h以上の超高速成膜を必要とする新しい小ロットDLC成膜技術の確立に向けて，重要な基盤的成果となった．また，その低摩擦発現機構を解明する過程で，a-C:H:Si膜の大気開放無潤滑下での低摩擦発現に関する新しい学術的知見が得られた．それらは，炭素系硬質膜の低摩擦発現に関する体系的な知識の一部をなすものであり，炭素系硬質膜を利用した摺動要素の設計に生かされる．
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