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大気圧プラズマジェットによる針状シリコン結晶の作製と成長機構の解明

Research Project

Project/Area Number 17656012
Research Category

Grant-in-Aid for Exploratory Research

Allocation TypeSingle-year Grants
Research Field Thin film/Surface and interfacial physical properties
Research InstitutionSaitama University

Principal Investigator

白井 肇  埼玉大学, 大学院理工学研究科, 助教授 (30206271)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 長谷川 靖洋  埼玉大学, 大学院理工学研究科, 助手 (60334158)
Project Period (FY) 2005 – 2006
Project Status Completed (Fiscal Year 2006)
Budget Amount *help
¥3,000,000 (Direct Cost: ¥3,000,000)
Fiscal Year 2006: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,300,000)
Fiscal Year 2005: ¥1,700,000 (Direct Cost: ¥1,700,000)
Keywordsシリコン針状結晶 / 大気圧マイクロプラズマジェット / 短時間溶融 / シリコンナノワイヤー / Siナノ・マイクロ構造 / シリコンナノコーン / 成長機構 / 金属コートシリコン / ナノ構造 / 電界放出特性 / 局所短時間加熱
Research Abstract

大気圧マイクロプラズマジェットによるCH4/Ar系からの針状シリコン結晶(SNC)の成長解明を目的として、微細構造の観察、プラズマ診断および基板表面のレーザー光反射率の実時間その場計測を通して診断した。内径700μmのタングステン製筒状電極に高周波電力を供給し、中心部からArを供給することで電極先端にプラズマジェットを生成し、周囲からCH4を供給することで電極直下に設置した金属コートシリコン基板上の生成物を詳細に調べた。その結果電極直下400μm以内の領域で針状生成物の一様な成長を見出した。またその周囲には多層カーボンナノチューブ(CNT)およびシリコンナノワイヤー(SNW)の成長を見出した。そこでこれらの成長機構の詳細を高分解能サーモグラフィーによる表面温度計測、SEM、マイクロラマン分光、電子顕微鏡観察(TEM)、電子放出特性により評価した。シリコン上の表面温度は、数ミリ秒で1400℃以上に達し、シリコンを十分溶融する温度に達していることがわかった。またSNCは主にナノ結晶Si微粒子、クラスターを内包するSiO_2コーンであることがEDX、ラマン分光により明らかになった。特にCH_4供給、金属コートのSNC成長に与える影響を考察した結果、CH4供給はプラズマガス温度の上昇に寄与し、金属シリサイド微粒子の形成を促進していることがわかった。さらに金属の種類を変えてSNC成長を行った結果、Fe, Cr, Ni等の重金属で顕著なSNC成長が観測され、一方融点の低いAu, Ag、Alでは成長が見られなかった。以上の結果はSiより融点の高い金属でSNC成長を促進することを明らかにした。さらに表面形状のプラズマ照射時間に対する観察、レーザー反射率の実時間評価から、熱プラズマジェットの金属コートシリコン基板照射直後のSiの溶融およびその冷却過程において、金属シリサイド液体から相変化に伴うシリコンと金属シリサイドの析出および液体から固化に伴う体積膨張がSNC、SNW等の微細構造を決定していることを明らかにした。

Report

(2 results)
  • 2006 Annual Research Report
  • 2005 Annual Research Report
  • Research Products

    (11 results)

All 2007 2006 2005

All Journal Article (10 results) Book (1 results)

  • [Journal Article] Rapid Recrystallization of Amorphous Silicon and Its Related Materials Utilizing Microplasma Jet at Atmospheric Pressure2006

    • Author(s)
      Y.Sakurai, M.Yeo, H.Shirai, T.Kobayashi, Y.Hasegawai
    • Journal Title

      J. Non-Cryst. Solids 352

      Pages: 989-992

    • Related Report
      2006 Annual Research Report
  • [Journal Article] Rapid Recrystallization of Amorphous Silicon Utilizing Very-High- Frequency Microplasma Jet at Atmospheric Pressure2006

    • Author(s)
      M.Yeo, Y.Sakurai, T.Kobayashi, H.Shirai
    • Journal Title

      Jpn. J. Appl. Phys. 45

      Pages: 8484-8487

    • NAID

      10018340299

    • Related Report
      2006 Annual Research Report
  • [Journal Article] Synthesis of Novel p-type Nanocrystalline Silicon from SiH_2Cl_2 and SiCl_4 by Rf Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition2006

    • Author(s)
      Y.Li, Y.Ikeda, Y.Toyoshima, H.Shirai
    • Journal Title

      J. Non-Cryst. Solids 506-507

      Pages: 38-44

    • Related Report
      2006 Annual Research Report
  • [Journal Article] Effects of Substrate Bias on High-Rate Synthesis of Microcrystalline Silicon Films Using a High-Density Microwave SiH_4/H_2 Plasm2006

    • Author(s)
      H.Jia, J.K.Saha, N.Ohse, H.Shirai
    • Journal Title

      J. Phys. D : Appl. Phys. 39

      Pages: 1-5

    • Related Report
      2006 Annual Research Report
  • [Journal Article] High-Density Microwave Plasma of SiH_4/H_2 for High Rate Growth of Highly Crystallized Microcrystalline Silicon Films2006

    • Author(s)
      H.Jia, J.K.Saha, N.Ohse, H.Shirai
    • Journal Title

      Eur. Phys. J. Appl. Phys. 33

      Pages: 153-159

    • Related Report
      2006 Annual Research Report
  • [Journal Article] Si Nanocones Synthesized using Bf Microplasma Jet at Atmospheric Pressure2005

    • Author(s)
      H.Shirai, T.Kobayashi, Y.Hasegawa
    • Journal Title

      Applied Physics Letters 87

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  • [Journal Article] Synthesis of silicon nanocones using rf microplasma jet at atmospheric pressure2005

    • Author(s)
      H.Shirai, T.Kobayashi, Y.Hasegawa
    • Journal Title

      Applied Physics Letters 87

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  • [Journal Article] RF microplasma et : Application to the rapid recrystallization of amorphous silicon2005

    • Author(s)
      Y.Sakurai, T.Kobayashi, Y.Hasegawa, H.Shirai
    • Journal Title

      Japan Journal of Applied Physics 44

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      2005 Annual Research Report
  • [Journal Article] Synthesis of carbon nano-structures using rf microplasma jet2005

    • Author(s)
      Z.Yang, T.Kikuchi, Y.Hatou, T.Kobayashi, H.Shirai
    • Journal Title

      Japan Journal of Applied Physics 44

      Pages: 4122-4127

    • Related Report
      2005 Annual Research Report
  • [Journal Article] Synthesis of well aligned carbon nanotubes using a high-density RF inductive coupling plasma2005

    • Author(s)
      H.Shirai, T.Kikuchi, T.Kobayashi
    • Journal Title

      Japan Journal of Applied Physics 44

      Pages: 1951-1954

    • NAID

      10015470958

    • Related Report
      2005 Annual Research Report
  • [Book] マイクロ・ナノプラスマ技術とその産葉応用2007

    • Author(s)
      監修:橘邦英, 寺嶋和夫, 白井肇(分担)
    • Total Pages
      329
    • Publisher
      シーエムシー出版
    • Related Report
      2006 Annual Research Report

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Published: 2005-04-01   Modified: 2016-04-21  

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