温度応答性高分子薄膜を利用した新規高機能性細胞アレイの開発
| Project/Area Number |
17700405
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Biomedical engineering/Biological material science
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| Research Institution | Tokyo Women's Medical University |
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Principal Investigator |
秋山 義勝 東京女子医科大学, 医学部, 助手 (20349640)
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| Project Period (FY) |
2005 – 2006
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2006)
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| Budget Amount *help |
¥3,600,000 (Direct Cost: ¥3,600,000)
Fiscal Year 2006: ¥1,600,000 (Direct Cost: ¥1,600,000)
Fiscal Year 2005: ¥2,000,000 (Direct Cost: ¥2,000,000)
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| Keywords | 再生医学 / 組織・細胞 / 生体材料 / 温度応答性高分子 / 電子線重合法 / 再生医療 / 超薄膜 |
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| Research Abstract |
温度応答性能を有するパターン化表面の作製の検討:温度変化により細胞接着および脱着が可能なパターン化の作成について検討を行った。昨年度、作製した30umサイズの正方形を有するPDMSのステンシルマスクを使い、ポリアクリルアミドをグラフトしたTCPS表面(PAAm-TCPS)に、温度応答性高分子であるpoly(N-(N'-isobutylacrylamide)propyl methacrylamide)(PNNisoBPMA)を電子線照射によりグラフトした。電子線照射直後の表面はステンシルマスクのパターンと形状を反映するようにPNNisoBPMAが堆積した。エタノール、冷水による洗浄により、堆積物は除去された。ステンシルマスクを利用せず、PAAm-TCPS全面にPNNisoBPMAをグラフトした表面は温度変化により細胞接着、剥離可能な表面であったことから、パターン化した表面も同様な性質であると推察した。一方、ガラス表面に電子線照射によりPIPAAmをグラフトした表面をUVエキシマレーザーにより表面微細加工を行い、30um四方の正方形を表面上に作製した。FITCラベル化BSAによる蛍光色素染色やTOF-SIMSによる表面分析から、レーザーアブレーション後の表面はガラス表面が露出していることが確認できた。これらの結果より、簡単にPIPAAm層を除去できることから、パターン化表面を作製するにはUVエキシマレーザーが有効であることが示唆された。これらの表面で細胞を培養した場合、1細胞レベルでの環境で培養ができ、温度変化により接着、剥離が制御できると期待できる。
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Report
(2 results)
Research Products
(3 results)
