• Search Research Projects
  • Search Researchers
  • How to Use
  1. Back to previous page

増感分子の多光子励起を利用した導電性ポリマーの光重合と微細加工

Research Project

Project/Area Number 17710118
Research Category

Grant-in-Aid for Young Scientists (B)

Allocation TypeSingle-year Grants
Research Field Microdevices/Nanodevices
Research InstitutionTokyo Polytechnic University

Principal Investigator

山田 勝実  東京工芸大学, 工学部, 助教授 (70277945)

Project Period (FY) 2005 – 2006
Project Status Completed (Fiscal Year 2006)
Budget Amount *help
¥800,000 (Direct Cost: ¥800,000)
Fiscal Year 2006: ¥300,000 (Direct Cost: ¥300,000)
Fiscal Year 2005: ¥500,000 (Direct Cost: ¥500,000)
Keywords多光子吸収 / 導電性ポリマー / 光造形 / 微細加工 / フェムト秒レーザー
Research Abstract

平成18年度は下記の4つの課題に取り組んだ。
1.光増感分子への赤外光照射によるピロール重合の確認
2.重合溶液の組成の最適化および露光条件の確立
3.チオフェン及びアニリンなどの他種モノマーを用いた光重合の検討
4.立体構造物の構築と物性評価
トリス(2,2'-ビピリジル)ルテニウム錯体、メチルビオローゲン、テトラフルオロホウ酸リチウムおよびピロールを含んだ水溶液に、ガラス板を析出基板として浸し、その表面にフェムト秒パルスレーザーを集光照射することで、スポット状の析出物が得られた。析出物と電解重合したポリピロールを赤外分光スペクトルで分析・比較した結果、ほぼ同形のスペクトルが得られたことから、赤外光の照射によりポリピロールが形成したと結論づけた。ルテニウム錯体は赤外領域には吸収を持たないため、赤外光では励起できない。ところが、本研究で用いた高強度フェムト秒パルス光(800nm)によって、ルテニウム錯体の蛍光が得られ、二光子過程での励起を確認した。その励起状態から、メチルビオローゲンへの光誘起電子移動およびピロールの酸化重合が起こっているものと考えられる。
まず、重合溶液の組成について検討した。その結果、光増感分子のトリス(2,2'-ビピリジル)ルテニウム錯体は使用した水溶液に5mM程度溶解するが、通常の光照射では、この濃度では濃度消光が生じる値であるが、多光子過程での励起ではそれは生じなかった。従って多光子過程を利用する場合ではこの濃度のルテニウム錯体溶液を用いることができる。ピロールモノマーの濃度に関しては、高濃度で用いた場合はピロールの直接励起を防ぐことが困難になること、ルテニウム錯体がピロール相に溶け出してしまうなどの理由から、比較的低濃度(数百mM)で用いることが重要である。このほか、露光条件に関してもいくつかの重要な知見が得られた。
これらの成果については、裏面のとおり4件の論文で発表した。

Report

(2 results)
  • 2006 Annual Research Report
  • 2005 Annual Research Report
  • Research Products

    (4 results)

All 2006

All Journal Article (4 results)

  • [Journal Article] Multiphoton-sensitized Polymerzation of Pyrrole2006

    • Author(s)
      Katsumi Yamada, Yu Kimura, Syoichi Suzuki, Junji Sone, Jun Chen, Shigeharu Urabe
    • Journal Title

      Chemistry Letters Vol.35 No.8

      Pages: 908-909

    • Related Report
      2006 Annual Research Report
  • [Journal Article] ビナフチル-フルオレン共重合高分子による直線偏光電場発光2006

    • Author(s)
      山田勝実, 占部茂治, 川村仁志, 内田孝幸, 大塚正男
    • Journal Title

      高分子論文集 Vol.63, No.10

      Pages: 704-706

    • NAID

      10018319124

    • Related Report
      2006 Annual Research Report
  • [Journal Article] MEH-PPVを用いた透明高分子有機EL素子2006

    • Author(s)
      内田孝幸, 斉藤寛幸, 三村寿文, 市原正浩, 山田勝実, 大塚正男
    • Journal Title

      電学論C 126巻12号

      Pages: 1537-1542

    • NAID

      10018403081

    • Related Report
      2006 Annual Research Report
  • [Journal Article] トリチオシアヌル酸高分子膜の光解重合とパターン形成2006

    • Author(s)
      山田勝実, 占部茂治
    • Journal Title

      日本写真学会誌 69巻3号

      Pages: 205-207

    • NAID

      10018147012

    • Related Report
      2006 Annual Research Report

URL: 

Published: 2005-04-01   Modified: 2016-04-21  

Information User Guide FAQ News Terms of Use Attribution of KAKENHI

Powered by NII kakenhi