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Fabrication of nanoporous single-crystal semiconductors with high carrier mobilities

Research Project

Project/Area Number 17K18988
Research Category

Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)

Allocation TypeMulti-year Fund
Research Field Materials engineering and related fields
Research InstitutionKyoto University

Principal Investigator

Miyake Masao  京都大学, エネルギー科学研究科, 准教授 (60361648)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) 平藤 哲司  京都大学, エネルギー科学研究科, 教授 (70208833)
池之上 卓己  京都大学, エネルギー科学研究科, 助教 (00633538)
Project Period (FY) 2017-06-30 – 2019-03-31
Project Status Completed (Fiscal Year 2018)
Budget Amount *help
¥6,500,000 (Direct Cost: ¥5,000,000、Indirect Cost: ¥1,500,000)
Fiscal Year 2018: ¥2,990,000 (Direct Cost: ¥2,300,000、Indirect Cost: ¥690,000)
Fiscal Year 2017: ¥3,510,000 (Direct Cost: ¥2,700,000、Indirect Cost: ¥810,000)
Keywordsポーラス材料 / エピタキシャル成長 / エピタキシー
Outline of Final Research Achievements

We have developed a novel method for the fabrication of nanoporous semiconductors, where semiconductors grow epitaxially through porous templates. An oxide semiconductor (ZnO) was successfully grown from an aqueous solution through a polymer layer with three-dimensional nanoporous structure formed on a single-crystal substrate. After the epitaxial growth, the polymer layer was removed to obtain a single crystal ZnO having a nanoporous structure. This nanoporous single crystal ZnO has a lower density of structural defects than conventional polycrystalline porous ZnO, and thus, should exhibit excellent electrical properties.

Academic Significance and Societal Importance of the Research Achievements

ナノポーラス材料は、様々な機能を発揮するポテンシャルを秘めた新素材として注目され、活発に研究開発が行われている。太陽電池や熱電素子などの電気エネルギーを利用する用途にポーラス材料を応用するためには、多孔質化した半導体が、優れた電気特性を有することが必要である。しかし、従来のポーラス材料の形成法では、ポーラス体を構成する物質が、多結晶体またはアモルファスのものしか得られず、欠陥を多く含むため、電気的特性が良いものは得られない。これに対し、本研究では、エピタキシャル成長を利用することで、欠陥の少ないナノポーラス半導体を得るプロセスを確立した。

Report

(3 results)
  • 2018 Annual Research Report   Final Research Report ( PDF )
  • 2017 Research-status Report
  • Research Products

    (5 results)

All 2019 2018

All Journal Article (1 results) (of which Peer Reviewed: 1 results) Presentation (4 results)

  • [Journal Article] Growth and Electrical Properties of Epitaxial ZnO Films Prepared by Chemical Bath Deposition Using a Flow Reactor2018

    • Author(s)
      Miyake Masao, Yamamoto Ken, Ikenoue Takumi, Hirato Tetsuji
    • Journal Title

      MATERIALS TRANSACTIONS

      Volume: 59 Issue: 11 Pages: 1761-1766

    • DOI

      10.2320/matertrans.M2018173

    • NAID

      120006596523

    • ISSN
      1345-9678, 1347-5320
    • Year and Date
      2018-11-01
    • Related Report
      2018 Annual Research Report
    • Peer Reviewed
  • [Presentation] ミスト CVD 法による二酸化モリブデンのエピタキシャル成長2019

    • Author(s)
      股村雄也,池之上卓己,三宅正男,平藤哲司
    • Organizer
      表面技術協会 第 139 回講演大会
    • Related Report
      2018 Annual Research Report
  • [Presentation] ミスト CVD 法による c面 Al2O3 基板への Ni1-XMgXO 薄膜のエピタキシャル成長とバンドギャップ制御2019

    • Author(s)
      米谷怜, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    • Organizer
      第 66 回 応用物理学会 春季学術講演会
    • Related Report
      2018 Annual Research Report
  • [Presentation] ミスト CVD 法を用いた VO2 薄膜のエピタキシャル成長2019

    • Author(s)
      木村信, 池之上卓己, 三宅正男, 平藤哲司
    • Organizer
      第 66 回 応用物理学会 春季学術講演会
    • Related Report
      2018 Annual Research Report
  • [Presentation] ミスト CVD 法による MoO2 薄膜成長2018

    • Author(s)
      股村雄也, 三宅正男, 池之上卓己, 平藤哲司
    • Organizer
      第 20 回関西表面技術フォーラム
    • Related Report
      2018 Annual Research Report

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Published: 2017-07-21   Modified: 2020-03-30  

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