Study on semiconductor consortium and joint company

• Project/Area Number: 18330090
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Section: 一般
• Research Field: Business administration
• Research Institution: Nagaoka University of Technology (2008); Doshisha University (2006-2007)
• Principal Investigator: YUNOGAMI Takashi Nagaoka University of Technology, 極限エネルギー密度工学研究センター, 客員教授 (90399056)
• Project Period (FY): 2006 – 2008
• Project Status: Completed (Fiscal Year 2008)
• Budget Amount: ¥6,330,000 (Direct Cost: ¥5,100,000、Indirect Cost: ¥1,230,000); Fiscal Year 2008: ¥2,600,000 (Direct Cost: ¥2,000,000、Indirect Cost: ¥600,000); Fiscal Year 2007: ¥2,730,000 (Direct Cost: ¥2,100,000、Indirect Cost: ¥630,000); Fiscal Year 2006: ¥1,000,000 (Direct Cost: ¥1,000,000)
• Keywords: 企業経営 / 半導体 / コンソーシアム / 合弁会社 / エルピーダメモリ / MOT / プロセス技術 / 混乱と摩擦 / 組織 / EUVL / ASET / セリート / ルネサステクノロジ / 日本半導体産業 / 国際競争力

Research Abstract

コンソーシアムを一つ作れば、半導体メーカーは、技術者を数十人規模で出向させる。その結果、半導体メーカー本体は、コンソーシアムを作るほど、技術者が減少しやせ細る。その結果、半導体メーカーの組織内に形成されている暗黙知は、徐々に削り取られていく。また、日本全体で見れば、技術者を、あちらこちらに分散させていることになる。その結果、日本半導体全体の競争力が低下する仮説を提言した。
また、合弁会社としてエルピーダメモリを取り上げ、技術者へのインタビューから、二社合弁でどのような混乱や摩擦が起きるかを明らかにした。更に、混乱や摩擦を解消するには、強力なリーダーシップを持った経営者が必要であること、および、エルピーダへ少数出向している三菱社員のように、統合した二社以外の出身で、二社の社員とは異なる経歴を持ち、二社からは一歩引いて客観的に物事を見ることができる社員を少数混在させておくことが、現場レベルでの混乱や摩擦の解消に効果があることを明らかにした。

Research Products

• [Journal Article] 《2社の経営統合における問題(1)》"良い所取り"目論む2社統合二重組織が混乱と摩擦を招く (2009)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: Electric Journal 2009年4月号 Pages: 38-40
• [Journal Article] 《2社の経営統合における問題(2)》統合の混乱・摩擦を抑えるには? 強力なリーダーシップが不可欠 (2009)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: Electric Journal 2009年5月号 Pages: 44-49
• [Journal Article] 《2社の経営統合における問題(3)》2社統合を成功させる鍵とは? 注目される第2次再編後の行方 (2009)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: Electric Journal 2009年6月号 Pages: 54-56
  • NAID: 40016724750
• [Journal Article] 半導体製造プロセス開発と工程アーキテクチャ-装置を購入すれば半導体は製造できるか?- (2008)
  • Author(s): 鈴木良始、湯之上隆
  • Journal Title: 同志社商学 第60巻第3・4号 Pages: 54-154
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 45nm世代以降の半導体産業の推移 (2008)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 精密工学会誌 Vol.74, No.6 Pages: 554-557
  • NAID: 110006782704
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 生産能力から見た東アジアの半導体産業の国際競争力 (2008)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: アジア経営研究 No.14 Pages: 75-94
  • NAID: 130007542605
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 半導体製造プロセス開発と工程アーキテクチヤ-装置を購入すれば半導体は製造できるか? - (2008)
  • Author(s): 鈴木良始, 湯之上隆
  • Journal Title: 同志社商学 第60巻、第3・4号 Pages: 54-154
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 45nm世代以降の半導体産業の推移 (2008)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 精密工学会誌 Vol. 74 No. 6 Pages: 554-557
  • NAID: 110006782704
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 生産能力から見た東アジアの半導体産業の国際競争力 (2008)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: アジア経営研究 No. 14 Pages: 75-94
  • NAID: 130007542605
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 生産能力から見た東アジアの半導体産業の国際競争力 (2008)
  • Author(s): 湯之上 隆
  • Journal Title: アジア経営研究 14号
  • NAID: 130007542605
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 45nm世代以降の半導体産業の推移 (2008)
  • Author(s): 湯之上 隆
  • Journal Title: 精密工学会 Vol.74 No.6 Pages: 1-4
  • NAID: 110006782704
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 生産技術力から見た日本半導体産業の国際競争力の研究 (2007)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 工業経営研究学会 第21巻 Pages: 118-127
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 10年後の未来の研究-ピークオイルとムーアの法則の終焉- (2007)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 化学工業 V0l.58 No.10
  • NAID: 40015672641
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 巻頭提言「日本半導体産業復活への提言」 (2007)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: マネジメントトレンド Vol.12 No.1 Pages: 2-15
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 《半導体メーカー分社化に伴う問題》再び日本半導体業界は再編か? 分社化に伴う危険性は何か? (2007)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: Electric Journal 2009年3月号 Pages: 48-49
• [Journal Article] 生産技術力から見た日本半導体産業の国際競争力の研究 (2007)
  • Author(s): 湯之上 隆
  • Journal Title: 工業経営研究学会 第21巻 Pages: 118-127
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 日本半導体産業復活への提言-あなたには「儲ける覚悟」がありますか? (2007)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 技術革新型企業創生プロジェクト、Discussion Paper Series、http://unit.aist.go.jp/techinfo/cisrep/ #07-12
• [Journal Article] A proposal to revival of Japanese semiconductor industry -Do you have "Preparedness to make a profit"?- (2007)
  • Author(s): Takashi Yunogami
  • Journal Title: 技術革新型企業創生プロジェクト、Discussion Paper Series、http://unit.aist.go.jp/techinfo/cisrep/ #07-05
• [Journal Article] 日本半導体産業のジレンマ(1)-イノベーションとは何か?- (2007)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: IPNEXT、知財ジャーナル、MOT(技術経営)、http://www.ipnext.jp/journal/mot/index.html 2007/03/26
• [Journal Article] Mistake of Japanese semiconductor industry (2006)
  • Author(s): Takashi Yunogami
  • Journal Title: Advances in Technology of Materials and Materials Processing Journal Vo.8[1] Pages: 87-100
• [Journal Article] 日本半導体産業の論文数および特許出願数と国際競争力に関する一考察 (2006)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 技術革新型企業創生プロジェクト、Discussion Paper Series、http://unit.aist.go.jp/techinfo/cisrep/ #06-02
• [Journal Article] 日本半導体産業のコスト競争力に関する一考察 -プロセス開発の初期過程に問題あり- (2006)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 技術革新型企業創生プロジェクト、Discussion Paper Series、http://unit.aist.go.jp/techinfo/cisrep/ #06-08
• [Journal Article] Innovation by Lam Research, a Semiconductor Equipment Manufacture - Lam Research' s Breakthrough in the Japanese Oxide Etcher Market- (2006)
  • Author(s): Takashi Yunogami
  • Journal Title: 技術革新型企業創生プロジェクト、Discussion Paper Series、http://unit.aist.go.jp/techinfo/cisrep/ #06-04
• [Journal Article] 地域別市場シェアから見た半導体露光装置メーカーの競争力 (2006)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 技術革新型企業創生プロジェクト、Discussion Paper Series、http://unit.aist.go.jp/techinfo/cisrep/ #06-04
• [Journal Article] 日本半導体産業・復活への提言-経営者も技術者も「もうける決意」が必要だ- (2006)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 日経エレクトロニクス No.936 Pages: 143-150
• [Journal Article] コストと技術は別物ではない、"儲ける技術"で悪循環を断て (2006)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: Electric Journal No.150 Pages: 61-65
• [Journal Article] 日本半導体産業復活への提言-あなたには「儲ける覚悟」がありますか?- (2006)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: SEMI Technology Symposium (STS) STS2006
• [Journal Article] 日本半導体メーカーの技術力の分析 (2006)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: Electronic Journal 第142回Technical Symposium No.142 Pages: 25-52
• [Journal Article] 生産技術力から見た日本半導体産業の国際競争力 (2006)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 工業経営研究 Vol.20 Pages: 77-80
  • NAID: 40016300658
• [Journal Article] 日本半導体産業のプロセス技術力とその問題点 (2006)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 社団法人・精密工学会 No.48 Pages: 53-71
• [Journal Article] 日本半導体産業のコスト競争力に関する一考察 -プロセス開発の初期過程に問題あり- (2006)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 同志社大学ITEC Working Paper Series, http:/www/itec/doshisha-u.jp/j/03_publication_01_workingpapre_stand.html #06-13 Pages: 535-552
• [Journal Article] ドライエッチング装置メーカー・ラムリサーチによるイノベーション-酸化膜ドライエッチング装置の日本市場におけるラムリサーチの躍進 (2006)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Journal Title: 同志社大学ITEC Working Paper Series, http:/www/itec/doshisha-u.jp/j/03_publication_01_workingpapre_stand.html #6-11 Pages: 449-474
• [Presentation] 歩留りと信頼性は高いほど良いか (2009)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Organizer: SEMI FORUM JAPAN 2006、2006年6月12日
  • Place of Presentation: グランキューブ大阪
  • Year and Date: 2009-05-27
• [Presentation] 緊急ランプセミナー★第二次半導体業界再編とその未来 (2009)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Organizer: Electronic Journal 第329回 Technical Seminar
  • Place of Presentation: 総評会館
  • Year and Date: 2009-05-14
• [Presentation] 緊急ランプセミナー★日本半導体業界再編への提言-二社統合を成功させるには? - (2009)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Organizer: Electronic Journal 第305回 Technical Seminar
  • Place of Presentation: 総評会館
  • Year and Date: 2009-03-18
• [Presentation] 世界金融恐慌に打ち克つ半導体技術とは? -DRAM1ドル時代の幕開け- (2009)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Organizer: Electronic Journal 第305回Technical Seminor
  • Place of Presentation: 総評会館
  • Year and Date: 2009-02-05
• [Presentation] イノベーションのジレンマ再び-DRAM1ドル時代の到来- (2008)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Organizer: 精密工学会「プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会」第70回研究会
  • Place of Presentation: プラザエフ7F「カトレア」
  • Year and Date: 2008-12-16
• [Presentation] イノベーションのジレンマ再び-DRAM 1ドル時代の到来- (2008)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Organizer: 精密工学会
  • Place of Presentation: プラザェフ東京
  • Year and Date: 2008-12-16
• [Presentation] LSIの微細化はどこまで続くのか? -LSIが人類にもたらしたもの- (2008)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Organizer: 第12回プラズマ応用研究会
  • Place of Presentation: 長岡技術科学大学、極限エネルギー密度工学研究センター極限棟2階201号
  • Year and Date: 2008-11-26
• [Presentation] アジアの半導体生産の国際競争力 (2007)
  • Author(s): 湯之上 隆
  • Organizer: アジア経営学会
  • Place of Presentation: 同志社大学
  • Year and Date: 2007-09-16
• [Book] 日本は過剰技術で過剰品質を作っている-だから世界で勝てない-(出版予定) (2009)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Publisher: 光文社
• [Book] 世界金融恐慌に打ち克つ半導体技術とは? -DRAM1ドル時代の幕開け- (2009)
  • Author(s): 湯之上隆編著
  • Publisher: 電子ジャーナル出版
• [Book] 世界金融恐慌に打ち克つ半導体技術とは? - DRAM1ドル時代の幕開け- (2009)
  • Author(s): 湯之上隆
  • Total Pages: 225
  • Publisher: Elactronic Journal
• [Book] 東アジア優位産業の競争力-その要因と競争・分業構造 (2008)
  • Author(s): 塩地洋編著
  • Publisher: ミネルヴァ書房出版
• [Book] 「第6章先進技術の選択的導入による棲み分け構造-半導体-」 (2008)
  • Author(s): 湯之上隆分担執筆
  • Publisher: ミネルヴァ書房出版
• [Book] 最新CMP技術と周辺部材(湯之上隆分担執筆「第1章第1節半導体産業の市場動向」) (2008)
  • Author(s): 金原粲監修
  • Publisher: 技術情報協会出版
• [Book] 東アジア優位産業の競争力 (2008)
  • Author(s): 塩地 洋編著、湯之上 隆共著
  • Total Pages: 248
  • Publisher: ミネルヴァ書房
• [Book] Recovering from Success : Innovation and Technology Management in Japan (2006)
  • Author(s): D.Hugh.Whittaker
  • Total Pages: 335
  • Publisher: Oxford University Press
• [Remarks]
  • URL: http://homepage3.nifty.com/yunoman/index.html
• [Remarks] 湯之上_NET
  • URL: http://homepage3.nifty.com/yunoman/
• [Remarks]
  • URL: http://www.omni-ins.co.jp/yunogami/achievement.htm
• [Patent(Industrial Property Rights)] 再生半導体ウエハの製造方法 (2009)
  • Inventor(s): 湯之上隆
  • Industrial Property Rights Holder: 湯之上隆
  • Filing Date: 2009-03-11
  • Acquisition Date: 2009-03-11
  • Overseas
• [Patent(Industrial Property Rights)] 再生半導体ウエハの製造方法 (2009)
  • Inventor(s): 湯之上隆、野部茂、野村豊
  • Industrial Property Rights Holder: FAサービス、日立化成
  • Industrial Property Number: 2009-135775
  • Filing Date: 2009-06-05
  • Acquisition Date: 2009-06-05
• [Patent(Industrial Property Rights)] 特許 (2009)
  • Inventor(s): 湯之上隆
  • Industrial Property Rights Holder: 湯之上隆
  • Filing Date: 2009-04-17
  • Overseas
• [Patent(Industrial Property Rights)] 使用済み半導体ウエハの再生方法 (2008)
  • Inventor(s): 湯之上隆
  • Industrial Property Rights Holder: 湯之上隆
  • Industrial Property Number: 2008-218723
  • Filing Date: 2008-07-17
  • Acquisition Date: 2008-07-17
• [Patent(Industrial Property Rights)] 使用済み半導体ウエハの再生方法 (2008)
  • Inventor(s): 湯之上隆
  • Industrial Property Rights Holder: 湯之上隆
  • Industrial Property Number: 2008-279728
  • Filing Date: 2008-10-31
  • Acquisition Date: 2008-10-31
• [Patent(Industrial Property Rights)] 使用済み半導体ウエハの再生方法 (2007)
  • Inventor(s): 湯之上隆
  • Industrial Property Rights Holder: 湯之上隆
  • Industrial Property Number: 2007-322809
  • Filing Date: 2007-11-26
  • Acquisition Date: 2007-11-26