Nano-chemical modification of diamond surfaces by a probing method in controlled atmosphere

• Project/Area Number: 18360348
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Section: 一般
• Research Field: Material processing/treatments
• Research Institution: The University of Tokyo
• Principal Investigator: MITSUDA Yoshitaka (YOSHITAKA Mitsuda) The University of Tokyo, 生産技術研究所, 教授 (20212235)
• Co-Investigator(Kenkyū-buntansha): 葛巻 徹 東海大学, 工学部, 講師 (50396909)
• Co-Investigator(Renkei-kenkyūsha): KUZUMAKI Toru (50396909)
• Project Period (FY): 2006 – 2009
• Project Status: Completed (Fiscal Year 2009)
• Budget Amount: ¥17,540,000 (Direct Cost: ¥15,200,000、Indirect Cost: ¥2,340,000); Fiscal Year 2009: ¥2,860,000 (Direct Cost: ¥2,200,000、Indirect Cost: ¥660,000); Fiscal Year 2008: ¥3,640,000 (Direct Cost: ¥2,800,000、Indirect Cost: ¥840,000); Fiscal Year 2007: ¥3,640,000 (Direct Cost: ¥2,800,000、Indirect Cost: ¥840,000); Fiscal Year 2006: ¥7,400,000 (Direct Cost: ¥7,400,000)
• Keywords: ダイヤモンド / 表面 / ナノ化学修飾 / 終端元素 / 走査型プローブ顕微鏡 / 化学修飾 / 雰囲気制御 / 走査型プローブ顕徽鏡 / 雰気制御

Research Abstract

Scanning probe microscopy was utilized for controlling the surface termination of diamond by current-induced chemical modification. Stabilities of hydrogen- and oxygentermination were analyzed in ultrahigh vacuum. Conditions for diamond nucleation and hydrogen termination were discussed on the basis of in-situ plasma analyses in microwave plasma chemical vapor deposition. Surface electric conduction layer caused by hydrogen termination was converted to insulating layer after treatment by tunneling current.

Research Products

• [Journal Article] Investigations of energy and flux of ions for diamond nucleation in microwave plasma chemical vapor deposition (2009)
  • Author(s): K. Nose, Y. Mitsuda
  • Journal Title: Proceedings of the 19th International Symposium on Plasma Chemistry No. 541 Pages: 1-4
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] 酸素終端ダイヤモンド表面からの脱離過程 (2006)
  • Author(s): 新沢慶介, 葛巻徹, 光田好孝
  • Journal Title: ダイヤモンドシンポジウム講演要旨集 第20回 Pages: 144-144
• [Presentation] 気相合成ダイヤモンド粒子からの電子放出の面内分布 (2010)
  • Author(s): 野瀬健二
  • Organizer: 第57回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 神奈川,東海大学
  • Year and Date: 2010-03-18
• [Presentation] InAlAs/InGaAs多重量子井戸ヘテロ界面2次元電子系からの電界電子放出 (2010)
  • Author(s): 板倉祥哲, 松本益明, 福谷克之, 岡野達雄, 平川和彦, 野瀬健二, 光田好孝, 谷口昌宏, 西川治
  • Organizer: 17a-Za-1第57回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 東海大学 (神奈川)
  • Year and Date: 2010-03-17
• [Presentation] InAlAs/InGaAs多重量子井戸ヘテロ界面2次元電子系からの電界電子放出 (2010)
  • Author(s): 板倉祥哲
  • Organizer: 第57回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 神奈川,東海大学
  • Year and Date: 2010-03-17
• [Presentation] 気相合成ダイヤモンド粒子からの電子放出の面内分布 (2010)
  • Author(s): 野瀬健二, 光田好孝
  • Organizer: 18p-TV-10第57回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 東海大学 (神奈川)
  • Year and Date: 2010-03-15
• [Presentation] バイアス処理におけるダイヤモンド核形成条件のプラズマ診断とイオンエネルギー分布の数値計算 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二, 光田好孝
  • Organizer: 第23回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 千葉工業大学 (千葉)
  • Year and Date: 2009-11-19
• [Presentation] H2Sガスを用いたSドープ多結晶ダイヤモンド膜の作製 (2009)
  • Author(s): 藤田龍平, 野瀬健二, 光田好孝
  • Organizer: 第23回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 千葉工業大学 (千葉)
  • Year and Date: 2009-11-18
• [Presentation] バイアス処理におけるダイヤモンド核形成条件のプラズマ診断とイオンエネルギー分布の数値計算 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二
  • Organizer: 第23回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 千葉,千葉工業大学
  • Year and Date: 2009-11-18
• [Presentation] H2Sガスを用いたSドープ多結晶ダイヤモンド膜の作製 (2009)
  • Author(s): 藤田龍平
  • Organizer: 第23回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 千葉,千葉工業大学
  • Year and Date: 2009-11-17
• [Presentation] マイクロ波プラズマCVDにおけるダイヤモンド核形成環境 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二, 光田好孝
  • Organizer: 第6回ヤングメタラジスト研究交流会
  • Place of Presentation: 東京工業大学 (東京)
  • Year and Date: 2009-10-22
• [Presentation] バイアス処理におけるダイヤモンド核形成条件のプラズマ診断とイオンエネルギー分布の数値計算 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二
  • Organizer: 第6回ヤングメタラジスト研究交流会
  • Place of Presentation: 東京,東京工業大学
  • Year and Date: 2009-10-22
• [Presentation] Investigations of energy and flux of ions for diamond nucleation in microwave plasma chemical vapor deposition (2009)
  • Author(s): K. Nose, Y. Mitsuda
  • Organizer: International Symposium on Plasma Chemistry
  • Place of Presentation: Bochum. Germany
  • Year and Date: 2009-07-30
• [Presentation] Investigations of energy and flux of ions for diamond nucleation in microwave plasma chemical vapor deposition (2009)
  • Author(s): K.Nose
  • Organizer: 19^<th> International symposium of plasma chemistry
  • Place of Presentation: Bochum,Germany
  • Year and Date: 2009-07-30
• [Presentation] 核形成プロセスの異なるダイヤモンド粒子からの電子放出特性 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二, 光田好孝
  • Organizer: 第56回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 筑波大学 (茨城)
  • Year and Date: 2009-04-01
• [Presentation] 核形成プロセスの異なるダイヤモンド粒子からの電子放出特性 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二
  • Organizer: 第56回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 茨城,筑波大学
  • Year and Date: 2009-04-01
• [Presentation] 核形成プロセスの異なるダイヤモンド粒子からの電子放出特性 (2009)
  • Author(s): 野瀬健二、光田好孝
  • Organizer: 第56回応用物理学関係連合講演会
  • Place of Presentation: 筑波大学(茨城)
• [Presentation] 立方晶窒化ホウ素への置換型不純物が形成するエネルギー準位の計算 (2008)
  • Author(s): 野瀬健二, 光田好孝
  • Organizer: 第22回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 早稲田大学 (東京)
  • Year and Date: 2008-10-21
• [Presentation] A numerical simulation of ion acceleration to negatively-biased substrate in a microwave-plasma chemical vapor deposition of diamond (2008)
  • Author(s): K. Nose, Y. Mitsuda
  • Organizer: 17th World Interfinish Congress
  • Place of Presentation: Busan, Korea
  • Year and Date: 2008-06-17
• [Presentation] A numerical simulation of ion acceleration to negatively-biased substrates in a microwave-plasma chemical vapor deposition of diamond (2008)
  • Author(s): K,Nose and Y,Mitsuda
  • Organizer: 17th world Interfinish Congress
  • Place of Presentation: Busan、Korea
  • Year and Date: 2008-06-17
• [Presentation] Growth and in-situ sulfur doping to diamond thin films in a microwave-plasma chemical vapor deposition (2008)
  • Author(s): Y. Mitsuda, K. Nose
  • Organizer: 17th World Interfinish Congress
  • Place of Presentation: Busan, Korea
  • Year and Date: 2008-06-16
• [Presentation] Growth and in-situ sulfur doping to diamond thin films in a microwave-plasma chemical vapor deposition (2008)
  • Author(s): Y. Mitsuda and K. Nose
  • Organizer: 17th world Interfmish Congress
  • Place of Presentation: Busan, Korea
  • Year and Date: 2008-06-16
• [Presentation] A numerical simulation of ion acceleration to negatively-biased substrates in microwave-plasma chemical vapor deposition of diamond (2008)
  • Author(s): K. Nose and Y. Mitsuda
  • Organizer: 17th world Interfnish Congress
  • Place of Presentation: Busan, Korea
  • Year and Date: 2008-06-16
• [Presentation] H2SによるSドーピCVD多結晶ダイヤモンド膜の結晶性と電気伝導 (2008)
  • Author(s): 諏訪 剛史,野瀬 健二,光田 好孝
  • Organizer: 第55回応用物理学会関係連合講演会
  • Place of Presentation: 日本大学
  • Year and Date: 2008-03-27
• [Presentation] ダイヤモンド核生成環境における照射イオンのエネルギー及びフラックスの定量化 (2008)
  • Author(s): 野瀬健二, 諏訪剛史, 光田好孝
  • Organizer: 表面技術協会 第117回講演大会
  • Place of Presentation: 日本大学 (津田沼)
  • Year and Date: 2008-03-12
• [Presentation] H2SによるSドープCVD多結晶ダイヤモンド膜の結晶性と電気伝導 (2008)
  • Author(s): 諏訪剛史, 野瀬健二, 光田好孝
  • Organizer: 第55回応用物理学会関係連合講演会
  • Place of Presentation: 日本大学 (船橋)
  • Year and Date: 2008-03-07
• [Presentation] H2SによるSドープCVD多結晶ダイヤモンド膜の結晶性と電気伝導 (2008)
  • Author(s): 諏訪剛史、野瀬健二、光田好孝
  • Organizer: 第55回応用物理学会関係連合講演会
  • Place of Presentation: 日本大学(船橋)
• [Presentation] Growth and in-situ sulfur doping to diamond thin films in a micro-wave-plasma chemical vapor deposition (2008)
  • Author(s): Y.Mitsuda and K,Nose
  • Organizer: 17th world Interfinish Congress
  • Place of Presentation: Busan, Korea
• [Presentation] H2Sを用いたCVD多結晶ダイヤモンド薄膜へのイオウドーピング (2007)
  • Author(s): 諏訪剛史, 野瀬健二, 光田好孝
  • Organizer: 第21回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 長岡技術科学大学 (長岡)
  • Year and Date: 2007-11-21
• [Presentation] 高圧プラズマCVD環境における負バイアス基板へのイオンエネルギー分布の理論予測 (2007)
  • Author(s): 野瀬健二, 諏訪剛史, 光田好孝
  • Organizer: 第21回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 長岡技術科学大学(長岡)
  • Year and Date: 2007-11-21
• [Presentation] H2Sを用いたCVD多結晶ダイヤモンド薄膜へのイオウドーピング (2007)
  • Author(s): 諏訪 剛史,野瀬 健二,光田 好孝
  • Organizer: 第21回ダイヤモンドシンポジウモ
  • Place of Presentation: 長岡技術科学大学
  • Year and Date: 2007-11-21
• [Presentation] H2Sを用いたCVD多結晶ダイヤモンド薄膜へのイオウドーピング (2007)
  • Author(s): 諏訪剛史、野瀬健二、光田好孝
  • Organizer: 第21回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 長岡技術科学大学(長岡)
• [Presentation] 酸素終端ダイヤモンド表面からの脱離過程 (2006)
  • Author(s): 新沢慶介, 葛巻徹, 光田好孝
  • Organizer: 第20回ダイヤモンドシンポジウム
  • Place of Presentation: 東京大学 (東京)
  • Year and Date: 2006-11-21
• [Presentation] 酸素終端ダイヤモンド表面からの脱離過程 (2006)
  • Author(s): 新沢慶介、葛巻徹、光田好孝
  • Organizer: 第20回ダイヤモンドシンポジウム講演要旨集
  • Place of Presentation: 東京大学(東京)
• [Remarks] 毎年5月末-6月初旬に開催される「駒場リサーチキャンパス公開」において、研究成果を公開した。
• [Remarks]
  • URL: http://www.ips.iis.u-tokyo.ac.jp/
• [Remarks] ウェブページにおける研究概要の紹介
  • URL: http://www.ips.iis.u-tokyo.ac.jp/
• [Remarks] 研究所一般公開(生研公開)における一般(中高生を含む)向けの研究紹介活動