Reduction of resistance of ZnO film by the microwave surface wave hydrogen plasma
Project/Area Number |
18560025
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Research Category |
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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Allocation Type | Single-year Grants |
Section | 一般 |
Research Field |
Thin film/Surface and interfacial physical properties
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Research Institution | Toyo University |
Principal Investigator |
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Co-Investigator(Kenkyū-buntansha) |
YOSHIDA Yasuhiko 東洋大学, 工学部, 教授 (80134500)
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Project Period (FY) |
2006 – 2008
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Project Status |
Completed (Fiscal Year 2008)
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Budget Amount *help |
¥3,790,000 (Direct Cost: ¥3,400,000、Indirect Cost: ¥390,000)
Fiscal Year 2008: ¥780,000 (Direct Cost: ¥600,000、Indirect Cost: ¥180,000)
Fiscal Year 2007: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000)
Fiscal Year 2006: ¥2,100,000 (Direct Cost: ¥2,100,000)
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Keywords | 低抵抗ZnO薄膜 / 透明導電膜 / マイクロ波表面波 / H_2 プラズマ / P型ZnO / ZnO膜 / N_2プラズマ / Zn0透明導電膜 / H_2プラズマ / ZnO透明導電膜 |
Research Abstract |
通常ZnOは化学量論比上の結合では、透明で高い電気的絶縁性を持っている。イオンプレーティング法で形成されたZnO膜にマイクロ波表面波(1000W)で励起したH_2 プラズマを30(sec)程度照射する事で、膜の可視領域における光学的透過率を下げることなく、また他の種々な金属元素をドープすることなく電気的な抵抗率を~10^<-3>(Ωcm)まで下げる事ができた。よってZnOの透明導電膜としての新しい応用が可能である。
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Report
(4 results)
Research Products
(51 results)
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[Presentation] プラズマプロセスによる薄膜の作製とそのバイオテクノロジーへの応用.2008
Author(s)
Y. YOSHIDA, D. S. KUMAR, A. SHOJI
Organizer
The 26^<th> International Coference of Photto polymer Science and Technology (CPS-25), Materials & Processes for Advanced Microlithography and Nanotechnology, B2-09
Place of Presentation
University Convention Hall, Chiba Univ., Tiba, Japan
Year and Date
2008-06-26
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[Presentation] Plasma polymerization of Tween2006
Author(s)
Y. SASUGA, F. W. SHI, A. SHOJI, D. S. KUMAR, K. KASHIWAGI, Y. YOSHIDA
Organizer
20", The 4^<th>International Symposium on Bioscience and Nanotechnology(P-48, p.81)
Place of Presentation
OkinawaConvention Centre, Ginowan, Okinawa
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[Presentation]
Author(s)
S.UMAHASHI, K.KASHIWAGI, H.MORITA, A.KUROKOUCHI , K.WADA
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