Studies on the Hybrid Simulation System of Molecular Dynamics and Monte Carlo Methods for Electrodeposition

• Project/Area Number: 18560059
• Research Category: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• Allocation Type: Single-year Grants
• Section: 一般
• Research Field: Engineering fundamentals
• Research Institution: Kyoto University
• Principal Investigator: KANEKO Yutaka Kyoto University, 大学院・情報学研究科, 助教 (00169583)
• Project Period (FY): 2006 – 2008
• Project Status: Completed (Fiscal Year 2008)
• Budget Amount: ¥3,850,000 (Direct Cost: ¥3,400,000、Indirect Cost: ¥450,000); Fiscal Year 2008: ¥910,000 (Direct Cost: ¥700,000、Indirect Cost: ¥210,000); Fiscal Year 2007: ¥1,040,000 (Direct Cost: ¥800,000、Indirect Cost: ¥240,000); Fiscal Year 2006: ¥1,900,000 (Direct Cost: ¥1,900,000)
• Keywords: めっき / 分子動力学法 / モンテカルロ法 / 添加剤

Research Abstract

分子スケールでのめっきの新しいシミュレーション法として分子動力学法とモンテカルロ法を統合した方法を開発し、表面処理分野に必要なめっきのシミュレーションシステムを構築した。このシステムを用いて、溶液中の添加剤の作用を解析し、添加剤の平滑作用と孔埋め込みへの影響について多くの知見を得た。さらに、めっきによるLSI配線作成の動的モンテカルロ計算のプログラムを開発し、欠陥を含まない配線作成に最適な添加剤の条件の探索を可能とした。

Research Products

• [Journal Article] Molecular Simulation Approach to the Effects of Additives in Electrodeposition Process (2009)
  • Author(s): S. Nishimura, Y. Kaneko, Y. Hiwatari, K. Ohara and F. Asa
  • Journal Title: ECS Transaction-Honolulu HI Vol.16
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] Monte Carlo and Molecular Dynamics Studies of the Effects of Additives in Electrodeposition (2009)
  • Author(s): Y. Kaneko, Y. Hiwatari, K. Ohara and F. Asa
  • Journal Title: Journal of Korean Physical Society Vol.54, No.3 Pages: 1207-1211
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] Monte Carlo and Molecular Dynamics studies of the Effects of Additives in Electrodeposition (2009)
  • Author(s): 金子豊
  • Journal Title: Journal of the Korean Physical Society 54 Pages: 1207-1211
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] Molecular Simulation Approach to the Effects of Additives in Electrodeposition Process (2009)
  • Author(s): 西村修一
  • Journal Title: ECS Transactions-Honolulu, HI 16
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] Kinetic Monte Carlo Simulation of Via Filling : Role of Chloride Ions (2008)
  • Author(s): Y. Kaneko, Y. Hiwatari, K. Ohara and F. Asa
  • Journal Title: ECS Transaction-Phoenix AZ Vol.13 No.12 Pages: 1-9
  • Peer Reviewed
• [Journal Article] Kinetic Monte Carlo Simulation of Via Filling : Role of Chloride Ions (2008)
  • Author(s): 金子豊
  • Journal Title: ECS Transactions-Phoenix, AZ 13 Pages: 1-9
  • Peer Reviewed
• [Presentation] Solid-by-Solidモデルによるビアホール充填のシミュレーション (2009)
  • Author(s): 金子豊
  • Organizer: 電気化学会 第76回大会
  • Place of Presentation: 京都大学吉田キャンパス
  • Year and Date: 2009-03-30
• [Presentation] Molecular Simulation Approach to the Effects of Additives in Electrodeposition Process (2008)
  • Author(s): S. Nishimura, Y. Kaneko, Y. Hiwatari, K. Ohara and F. Asa
  • Organizer: Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-State Science (Joint international meeting ; 214th Meeting of ECS and 2008 Fall Meeting of The Electrochemical Society of Japan)
  • Place of Presentation: Honolulu, HI, USA
  • Year and Date: 2008-10-15
• [Presentation] Molecular Simulation Approach to the Effects of Additives in Electrodeposition Process (2008)
  • Author(s): 金子豊
  • Organizer: アメリカ電気化学会大会(214th ECS Meeting)
  • Place of Presentation: ホノルル(米国)
  • Year and Date: 2008-10-15
• [Presentation] Monte Carlo and Molecular Dynamics Studies of the Effects of Additives in Electrodeposition (2008)
  • Author(s): Y. Kaneko, Y. Hiwatari, K. Ohara and F. Asa
  • Organizer: 17th World Interfinish Congress and Exposition
  • Place of Presentation: Pusan, Korea
  • Year and Date: 2008-06-18
• [Presentation] Monte Carlo and Molecular Dynamics Studies of the Effects of Additives in Electrodeposition (2008)
  • Author(s): 金子豊
  • Organizer: 17th World Congress and Exposition(Interfinish 2008)
  • Place of Presentation: 釜山(韓国)
  • Year and Date: 2008-06-18
• [Presentation] Kinetic Monte Carlo Simulation of Via Filling : Role of Chloride Ions (2008)
  • Author(s): 金子豊
  • Organizer: アメリカ電気化学会大会(213th ECS Meeting)
  • Place of Presentation: フェニックス(米国)
  • Year and Date: 2008-05-27
• [Presentation] 電気的析出における抑制効果を持つ添加剤の効果 : 分子動力学法とモンテカルロ法の統合シミュレーション (2008)
  • Author(s): 金子豊, 西村修一, 樋渡保秋, 小原勝彦, 浅富士夫
  • Organizer: 電気化学会第75回大会
  • Place of Presentation: 山梨大学
  • Year and Date: 2008-03-31
• [Presentation] 電気的析出における抑制作用を持つ添加剤の効果:分子動力学法とモンテカルロ法の統合シミュレーション (2008)
  • Author(s): 金子豊
  • Organizer: 電気化学会 第75回大会
  • Place of Presentation: 山梨大学
  • Year and Date: 2008-03-31
• [Presentation] 電気銅めっきによる孔埋め込における塩化物イオンの効果-分子シミュレーションによるアプローチ- (2008)
  • Author(s): 金子豊, 樋渡保秋, 小原勝彦, 浅富士夫
  • Organizer: 表面技術協会第117回講演大会
  • Place of Presentation: 日本大学津田沼
  • Year and Date: 2008-03-13
• [Presentation] 電気銅めっきによる孔埋め込みにおける塩化物イオンの効果-分子シミュレーションによるアプローチ- (2008)
  • Author(s): 金子豊
  • Organizer: 表面技術協会 第117回講演大会
  • Place of Presentation: 日本大学津田沼
  • Year and Date: 2008-03-13
• [Presentation] 電気めっきによる皮膜生成に対する添加剤の効果;分子動力学法とモンテカルロ法の統合手法 (2007)
  • Author(s): 西村修一, 金子豊, 樋渡保秋, 小原勝彦, 浅富士夫
  • Organizer: 第21回分子シミュレーション討論会
  • Place of Presentation: 金沢歌劇座、金沢市
  • Year and Date: 2007-11-28
• [Presentation] 電気めっきによる皮膜生成に対する添加剤の効果-分子動力学法とモンテカルロ法の統合手法- (2007)
  • Author(s): 西村修一
  • Organizer: 第21回分子シミュレーション討論会
  • Place of Presentation: 金沢歌劇座(金沢市)
  • Year and Date: 2007-11-28
• [Presentation] めっきによるLSI 配線作成における添加剤の効果と埋め込み性-動的モンテカルロシミュレーション- (2007)
  • Author(s): 金子豊, 樋渡保秋, 小原勝彦, 浅富士夫
  • Organizer: 第21回分子シミュレーション討論会
  • Place of Presentation: 金沢歌劇座、金沢市
  • Year and Date: 2007-11-26
• [Presentation] めっきによるLSI配線作成における添加剤の効果と埋め込み性-動的モンテカルロシミュレーション- (2007)
  • Author(s): 金子豊
  • Organizer: 第21回分子シミュレーション討論会
  • Place of Presentation: 金沢歌劇座(金沢市)
  • Year and Date: 2007-11-26
• [Presentation] ビアフィリングにおける添加剤の相互作用と埋め込み性-動的モンテカルロシミュレーション- (2007)
  • Author(s): 金子豊, 樋渡保秋, 小原勝彦, 浅富士夫
  • Organizer: 表面技術協会第116回講演大会
  • Place of Presentation: 長崎大学
  • Year and Date: 2007-09-19