High-performance MEMS devices realized by three-dimensional photolithography
| Project/Area Number |
18681023
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Microdevices/Nanodevices
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| Research Institution | Toyota Technological Institute (2007-2008)
Tohoku University (2006) |
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Principal Investigator |
SASAKI Minoru Toyota Technological Institute, 工学部, 教授 (70282100)
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| Project Period (FY) |
2006 – 2008
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2008)
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| Budget Amount *help |
¥25,610,000 (Direct Cost: ¥19,700,000、Indirect Cost: ¥5,910,000)
Fiscal Year 2008: ¥8,320,000 (Direct Cost: ¥6,400,000、Indirect Cost: ¥1,920,000)
Fiscal Year 2007: ¥8,320,000 (Direct Cost: ¥6,400,000、Indirect Cost: ¥1,920,000)
Fiscal Year 2006: ¥8,970,000 (Direct Cost: ¥6,900,000、Indirect Cost: ¥2,070,000)
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| Keywords | マイクロファブリケーション / マイクロマシン / デバイス設計・製造プロセス / 3次元フォトリソグラフィ / 3次元デバイス / 垂直壁 / 3次元実装 / 流体解析 / 先端機能デバイス |
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| Research Abstract |
3次元フォトリソグラフィの応用可能性をニーズのあるデバイスの形で示す試みは、ニーズを持つ外部研究グループと一緒に行った。関西大学の青柳教授らとの、自立カンチレバーと組み合わされたMOSFET容量センサ、香川大学の大平教授らとの、ICパッケージ側壁への配線パターン形成である。露光技術などの推敲と、成膜の基礎研究(評価法、気流解析)も平行して進めた。応用展開と、プロセス技術全般の推敲、学術的基礎の蓄積が進展した。
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Report
(4 results)
Research Products
(53 results)
