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高精度X線ミラー作製のためのナノ精度表面形状転写法の開発

Research Project

Project/Area Number 18760100
Research Category

Grant-in-Aid for Young Scientists (B)

Allocation TypeSingle-year Grants
Research Field Production engineering/Processing studies
Research InstitutionOsaka University

Principal Investigator

三村 秀和  Osaka University, 大学院・工学研究科, 助教 (30362651)

Project Period (FY) 2006 – 2007
Project Status Completed (Fiscal Year 2007)
Budget Amount *help
¥3,200,000 (Direct Cost: ¥3,200,000)
Fiscal Year 2007: ¥1,300,000 (Direct Cost: ¥1,300,000)
Fiscal Year 2006: ¥1,900,000 (Direct Cost: ¥1,900,000)
Keywords電鋳 / X線ミラー / ナノ精度 / 転写 / 表面
Research Abstract

本研究では、高精度に平滑化された表面を転写により実現することを目的とし、具体的には、ナノメートルの表面粗さが要求されるX線ミラーの転写による作製を目指した。本プロセスは電鋳法をベースとしており、昨年度準備した電析実験装置を用いた基礎的検討を実施した。
・ 電極層形成条件の検討
電極層形成におけるバインダー層のCrの量を全反射蛍光X線分析により定量的に調査を実施し、Cr量を精密に調整することで、良好な剥離条件を見出した。
・ 金属析出条件の検討
良好な平滑転写表面の実現を目的に、Ni金属析出条件と電極層形成条件の精密な探索を実施した。金属析出条件の詳細な調査をするためにピコアンメーターとエレクトロメーターによる精密電流、電圧、測定を実施した。その結果、標準電極基準による電圧を決定することが可能となった。その結果、マスター表面と同等の転写表面を得る事に成功し、さらにEEMにより平滑化された表面の転写を実施し、1μmx1μm四方において、RMS0.1nmレベルの平滑表面を得ることを確認した。
・ 各種マスター表面を用いた転写表面の粗さ評価
マスター基板として、Siウエハーと石英ガラスを用いた。Siの場合は、Niシリサイド層が形成されており、時間経過とともに剥離することが困難であることがわかった。その結果、マスターとしては、石英ガラス表面を洗濯した。マスターを2回使用しても、マスター表面の粗さは変わらず、2回目の転写表面に関しても、良好な表面粗さを確認した。

Report

(2 results)
  • 2007 Annual Research Report
  • 2006 Annual Research Report
  • Research Products

    (4 results)

All 2007 2006 Other

All Presentation (1 results) Remarks (1 results) Patent(Industrial Property Rights) (2 results)

  • [Presentation] 反射型光学素子作製のためのナノ精度表面転写法の開発2007

    • Author(s)
      芝谷昭彦, 他
    • Organizer
      第68回応用物理学会学術講演回
    • Place of Presentation
      北海道工業大学
    • Year and Date
      2007-09-05
    • Related Report
      2007 Annual Research Report
  • [Remarks]

    • URL

      http://www-up.prec.eng.osaka-u.ac.jp/index.htm

    • Related Report
      2007 Annual Research Report
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 電鋳法における形状転写導電層の形成方法2007

    • Inventor(s)
      三村秀和
    • Industrial Property Rights Holder
      大阪大学・大阪TLO共願
    • Industrial Property Number
      2007-260639
    • Filing Date
      2007-10-04
    • Related Report
      2007 Annual Research Report
  • [Patent(Industrial Property Rights)] 精密形状転写法2006

    • Inventor(s)
      三村秀和, 山内和人, 岡田浩巳
    • Industrial Property Rights Holder
      大阪大学, (株)ジェイテツク
    • Filing Date
      2006-09-12
    • Related Report
      2006 Annual Research Report

URL: 

Published: 2006-04-01   Modified: 2016-04-21  

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