| Project/Area Number |
18760575
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| Research Category |
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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| Allocation Type | Single-year Grants |
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| Research Field |
Reaction engineering/Process system
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| Research Institution | Nihon University |
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Principal Investigator |
ASAI Tomohiko Nihon University, 理工学部, 講師 (00386004)
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| Project Period (FY) |
2006 – 2008
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| Project Status |
Completed (Fiscal Year 2008)
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| Budget Amount *help |
¥3,250,000 (Direct Cost: ¥3,100,000、Indirect Cost: ¥150,000)
Fiscal Year 2008: ¥650,000 (Direct Cost: ¥500,000、Indirect Cost: ¥150,000)
Fiscal Year 2007: ¥700,000 (Direct Cost: ¥700,000)
Fiscal Year 2006: ¥1,900,000 (Direct Cost: ¥1,900,000)
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| Keywords | 磁化プラズモイド / スフェロマック / 傾斜機能性材料 / プラズマプロセス / 磁化プラズマ流 / 磁化同軸プラズマガン / 磁気再結合 / 磁気ヘリシティ / インバータ放電 / フロー / プラズモイド |
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| Research Abstract |
本研究では,磁化同軸ガンにより生成されるフローや孤立した磁場構造を持ったスフェロマックプラズマについて,IGBTインバータを用いた放電制御回路を開発し,高繰り返し率生成・射出方法を確立することで,表面改質や短波長光源などへの応用方法を実現した。特に,生成されるスフェロマックの捕捉磁束や温度が,放電デューティ比に極めて強く依存することが示され,プラズマの生成効率の向上の可能性が示された。
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